| Attributes | Values |
|---|
| rdf:type
| |
| rdfs:seeAlso
| |
| Description
| - Deposition of metal nanoparticles on substrate surface is based on the activation of the substrate surface low pressure plasma at room temperature in air with subsequent deposition of nanoparticles kovůponořením substrate in an aqueous or non-aqueous suspension of metal nanoparticles by evaporation liquid after removing the substrate from the suspension. SUMMARY OF THE INVENTION Above mentioned objective is achieved by the invention which is a method of deposition of metal nanoparticles on the surface of a substrate, consisting in the procedure in which the metal nanoparticles are deposited on pre-oxidized substrate surface by low pressure plasma at room temperature and ambient atmospheric pressure. Metal nanoparticles are deposited onto the substráte surface by immersion in an aqueous or non-aqueous suspension with subsequent evaporation of the liquid. It is the essence of the invention, the nanoparticles of metals are deposited on the substrate surface which has been oxidized by low-temperature plasma; the nanoparticles are organized into 2D (two-dimensional) structures. It is also the essence of the invention, the processing time of the substrate surface by low pressure plasma which changes the wettability of the surface and affects the rate of deposition of metal nanoparticles on this surface and influence the self-organization of nanoparticles into 2D (two-dimensional) (en)
- Depozice nanočástic kovů na povrch substrátu je založena na aktivaci povrchu substrátu nízkoteplotním plazmatem za pokojové teploty na vzduchu s následnou depozicí nanočástic kovů ponořením substrátu do vodné nebo nevodné suspenze nanočástic kovůa odpařením kapaliny po vyjmutí substrátu ze suspenze. PODSTATA VYNÁLEZU Uvedeného cíle je dosaženo vynálezem, kterým je způsob depozice nanočástic kovů na povrch substrátu, spočívající v tom, že nanočástice kovů jsou na povrch substrátu předem opracovaného nízkoteplotním plazmatem při pokojové teplotěa za atmosférického tlaku nanášeny jejich ponořením do vodné nebo nevodné suspenze nanočástic kovů s následným odpařením kapaliny. Dále je podstatou vynálezu, že nanočástice kovů deponované na povrchu substrátu předem opracovaného nízkoteplotním plazmatem jsou organizovány do 2D (dvourozměrné) struktury. Je rovněž podstatou vynálezu, že doba opracování povrchu substrátu nízkoteplotním plazmatem prostřednictvím změny smáčivosti tohoto povrchu ovlivňuje míru depozice nanočástic kovůna tomto povrchu a samoorganizaci nanočástic do 2D (dvourozměrné) struktury. Také je podstatou vynálezu, že výběrem kapaliny, ve které je vytvořena suspenze nanočástic kovů, je ovlivněna homogenita depozice nanočástic kovůna povrchu substrátu a agregace těchto částic a jejich samoorganizace do 2D (dvourozměrné) struktury. Také je podstatou vynálezu, že řízením rychlosti odpařování kapaliny, ve které je vytvořena suspenze nanočástic kovů, změnou teploty nebo tlaku, je ovlivněna homogenita depozice nanočástic kovů na povrchu substrátu a agregace těchto částic a jejich samoorganizace do 2D (dvourozměrné) struktury.
- Depozice nanočástic kovů na povrch substrátu je založena na aktivaci povrchu substrátu nízkoteplotním plazmatem za pokojové teploty na vzduchu s následnou depozicí nanočástic kovů ponořením substrátu do vodné nebo nevodné suspenze nanočástic kovůa odpařením kapaliny po vyjmutí substrátu ze suspenze. PODSTATA VYNÁLEZU Uvedeného cíle je dosaženo vynálezem, kterým je způsob depozice nanočástic kovů na povrch substrátu, spočívající v tom, že nanočástice kovů jsou na povrch substrátu předem opracovaného nízkoteplotním plazmatem při pokojové teplotěa za atmosférického tlaku nanášeny jejich ponořením do vodné nebo nevodné suspenze nanočástic kovů s následným odpařením kapaliny. Dále je podstatou vynálezu, že nanočástice kovů deponované na povrchu substrátu předem opracovaného nízkoteplotním plazmatem jsou organizovány do 2D (dvourozměrné) struktury. Je rovněž podstatou vynálezu, že doba opracování povrchu substrátu nízkoteplotním plazmatem prostřednictvím změny smáčivosti tohoto povrchu ovlivňuje míru depozice nanočástic kovůna tomto povrchu a samoorganizaci nanočástic do 2D (dvourozměrné) struktury. Také je podstatou vynálezu, že výběrem kapaliny, ve které je vytvořena suspenze nanočástic kovů, je ovlivněna homogenita depozice nanočástic kovůna povrchu substrátu a agregace těchto částic a jejich samoorganizace do 2D (dvourozměrné) struktury. Také je podstatou vynálezu, že řízením rychlosti odpařování kapaliny, ve které je vytvořena suspenze nanočástic kovů, změnou teploty nebo tlaku, je ovlivněna homogenita depozice nanočástic kovů na povrchu substrátu a agregace těchto částic a jejich samoorganizace do 2D (dvourozměrné) struktury. (cs)
|
| Title
| - Způsob depozice nanočástic kovů na povrch substrátu
- Způsob depozice nanočástic kovů na povrch substrátu (cs)
- The method of deposition of metal nanoparticles on the substrate surface (en)
|
| skos:prefLabel
| - Způsob depozice nanočástic kovů na povrch substrátu
- Způsob depozice nanočástic kovů na povrch substrátu (cs)
- The method of deposition of metal nanoparticles on the substrate surface (en)
|
| skos:notation
| - RIV/61989592:15310/12:33143593!RIV13-MSM-15310___
|
| http://linked.open...avai/riv/aktivita
| |
| http://linked.open...avai/riv/aktivity
| |
| http://linked.open...cisloPatentuVzoru
| |
| http://linked.open...eleniPatentuVzoru
| |
| http://linked.open...vai/riv/dodaniDat
| |
| http://linked.open...aciTvurceVysledku
| |
| http://linked.open.../riv/druhVysledku
| |
| http://linked.open...iv/duvernostUdaju
| |
| http://linked.open...titaPredkladatele
| |
| http://linked.open...dnocenehoVysledku
| |
| http://linked.open...ai/riv/idVysledku
| - RIV/61989592:15310/12:33143593
|
| http://linked.open...riv/jazykVysledku
| |
| http://linked.open.../riv/klicovaSlova
| - surface; substrate; nanoparticles; metal; deposition; method (en)
|
| http://linked.open.../riv/klicoveSlovo
| |
| http://linked.open...ontrolniKodProRIV
| |
| http://linked.open.../licencniPoplatek
| |
| http://linked.open...ydaniPatentuVzoru
| |
| http://linked.open...atelePatentuVzoru
| - Úřad průmyslového vlastnictví
|
| http://linked.open...in/vavai/riv/obor
| |
| http://linked.open...ichTvurcuVysledku
| |
| http://linked.open...cetTvurcuVysledku
| |
| http://linked.open...vavai/riv/projekt
| |
| http://linked.open...UplatneniVysledku
| |
| http://linked.open...ydaniPatentuVzoru
| |
| http://linked.open...iv/tvurceVysledku
| - Šišková, Karolína
- Mašláň, Miroslav
- Šafářová, Klára
|
| http://linked.open...mniOchranaPatentu
| |
| http://linked.open...avai/riv/vlastnik
| |
| http://linked.open...itiJinymSubjektem
| |
| http://linked.open...uzitiPatentuVzoru
| |
| http://linked.open...stnikPatentuVzoru
| - Univerzita Palackého v Olomouci
|
| http://localhost/t...ganizacniJednotka
| |
![[RDF Data]](/fct/images/sw-rdf-blue.png)
![[cxml]](/fct/images/cxml_doc.png)
![[csv]](/fct/images/csv_doc.png)
![[text]](/fct/images/ntriples_doc.png)
![[turtle]](/fct/images/n3turtle_doc.png)
![[ld+json]](/fct/images/jsonld_doc.png)
![[rdf+json]](/fct/images/json_doc.png)
![[rdf+xml]](/fct/images/xml_doc.png)
![[atom+xml]](/fct/images/atom_doc.png)
![[html]](/fct/images/html_doc.png)