About: Using of chemical etching for layer removal residual stress measurement in thin films     Goto   Sponge   NotDistinct   Permalink

An Entity of Type : http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/Vysledek, within Data Space : linked.opendata.cz associated with source document(s)

AttributesValues
rdf:type
Description
  • The layer removal method is used for the residual stress measurement in thin Ti Films. Concentrated hydrochloric acid is used for the successive layer removal of the coating. The etching process is analyzed. Removed layer thickness is measured and the residual stress of the Ti film is determined based on changes of the samples deflection.
  • The layer removal method is used for the residual stress measurement in thin Ti Films. Concentrated hydrochloric acid is used for the successive layer removal of the coating. The etching process is analyzed. Removed layer thickness is measured and the residual stress of the Ti film is determined based on changes of the samples deflection. (en)
  • Metoda úběru je využívána pro měření zbytkového napětí v tenkých povlacích Ti. K postupnému odstraňování vrstvy je používána kyselina chlorovodíková. Průběh procesu odleptávání je analyzován. Tloušťka odleptané vrstvy je zaznamenávána a zbytkové napětí v tenkém povlaku Ti je určováno na základě změny průhybu vzorku. (cs)
Title
  • Using of chemical etching for layer removal residual stress measurement in thin films
  • Použití chemického odleptávání pro měření zbytkových napětí v tenkých povlacích metodou úběru (cs)
  • Using of chemical etching for layer removal residual stress measurement in thin films (en)
skos:prefLabel
  • Using of chemical etching for layer removal residual stress measurement in thin films
  • Použití chemického odleptávání pro měření zbytkových napětí v tenkých povlacích metodou úběru (cs)
  • Using of chemical etching for layer removal residual stress measurement in thin films (en)
skos:notation
  • RIV/49777513:23640/06:00000106!RIV07-MSM-23640___
http://linked.open.../vavai/riv/strany
  • 55-59
http://linked.open...avai/riv/aktivita
http://linked.open...avai/riv/aktivity
  • Z(MSM4977751302)
http://linked.open...vai/riv/dodaniDat
http://linked.open...aciTvurceVysledku
http://linked.open.../riv/druhVysledku
http://linked.open...iv/duvernostUdaju
http://linked.open...titaPredkladatele
http://linked.open...dnocenehoVysledku
  • 505375
http://linked.open...ai/riv/idVysledku
  • RIV/49777513:23640/06:00000106
http://linked.open...riv/jazykVysledku
http://linked.open.../riv/klicovaSlova
  • residual stress; layer removal method; coatings (en)
http://linked.open.../riv/klicoveSlovo
http://linked.open...ontrolniKodProRIV
  • [DFEB8EAE5690]
http://linked.open...v/mistoKonaniAkce
  • Hokovce, Slovensko
http://linked.open...i/riv/mistoVydani
  • Český Těšín
http://linked.open...i/riv/nazevZdroje
  • Hutnícka analytika 2006
http://linked.open...in/vavai/riv/obor
http://linked.open...ichTvurcuVysledku
http://linked.open...cetTvurcuVysledku
http://linked.open...UplatneniVysledku
http://linked.open...iv/tvurceVysledku
  • Švantner, Michal
  • Mužík, Tomáš
  • Šůna, Jan
http://linked.open...vavai/riv/typAkce
http://linked.open.../riv/zahajeniAkce
http://linked.open...n/vavai/riv/zamer
number of pages
http://purl.org/ne...btex#hasPublisher
  • 2 THETA
https://schema.org/isbn
  • 80-86380-34-3
http://localhost/t...ganizacniJednotka
  • 23640
Faceted Search & Find service v1.16.118 as of Jun 21 2024


Alternative Linked Data Documents: ODE     Content Formats:   [cxml] [csv]     RDF   [text] [turtle] [ld+json] [rdf+json] [rdf+xml]     ODATA   [atom+xml] [odata+json]     Microdata   [microdata+json] [html]    About   
This material is Open Knowledge   W3C Semantic Web Technology [RDF Data] Valid XHTML + RDFa
OpenLink Virtuoso version 07.20.3240 as of Jun 21 2024, on Linux (x86_64-pc-linux-gnu), Single-Server Edition (126 GB total memory, 25 GB memory in use)
Data on this page belongs to its respective rights holders.
Virtuoso Faceted Browser Copyright © 2009-2024 OpenLink Software