About: Nanostructure of photocatalytic TiO2 films sputtered at temperatures below 200°C

Facets (new session)
Description
Metadata
Settings
- owl:sameAs
- Inference Rule:

About: Nanostructure of photocatalytic TiO2 films sputtered at temperatures below 200°C Goto Sponge NotDistinct Permalink

An Entity of Type : http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/Vysledek, within Data Space : linked.opendata.cz associated with source document(s)

Attributes	Values
rdf:type	skos:Concept http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/Vysledek
Description	Článek se věnuje podrobné studii korelací mezi depozičními parametry procesu pulzní reaktivní duální magnetronové depozice vrstev TiO2 deponovaných při teplotě T pod 180°C, jejich fyzikálními vlastnostmi a fotoaktivitou. Byly prezentovány možnosti přípravy krystalických fotoaktivních vrstev bez nutnosti jejich post-depozičního žíhání a bylo ukázáno, že parciální tlak kyslíku a celkový tlak směsi Ar+O2 jsou klíčovými parametry ovlivňujícími vlastnosti deponovaných vrstev při dané výkonové zátěži magnetronů již 500 nm tlusté anatasové vrstvy vykazují velmi vysokou fotoaktivitu a další zvýšení jejich tloušťky nevede k výraznému zvýšení fotoaktivity a teplota depozičního procesu neovlivňuje při T<200°C výsledné vlastnosti vrstev, které jsou tak ovlivněny pouze částicemi, které dopadají a kondenzují na substrátu. (cs) The article reports on correlations between the process parameters of reactive pulsed dc magnetron sputtering, physical properties and the photocatalytic activity of TiO2 films sputtered at substrate surface temperature. Films were deposited using a dual magnetron system equipped with targets in Ar+O2 atmosphere in oxide mode of sputtering. The TiO2 films with highly photoactive anatase phase were prepared without a post-deposition thermal annealing. The article reports on correlations between the process parameters of reactive pulsed dc magnetron sputtering, physical properties and the photocatalytic activity of TiO2 films sputtered at substrate surface temperature. Films were deposited using a dual magnetron system equipped with targets in Ar+O2 atmosphere in oxide mode of sputtering. The TiO2 films with highly photoactive anatase phase were prepared without a post-deposition thermal annealing. (en)
Title	Nanostructure of photocatalytic TiO2 films sputtered at temperatures below 200°C Nanostructure of photocatalytic TiO2 films sputtered at temperatures below 200°C (en) Nanostruktura fotokatalytických vrstev TiO2 deponovaných při teplotě pod 200°C (cs)
skos:prefLabel	Nanostructure of photocatalytic TiO2 films sputtered at temperatures below 200°C Nanostructure of photocatalytic TiO2 films sputtered at temperatures below 200°C (en) Nanostruktura fotokatalytických vrstev TiO2 deponovaných při teplotě pod 200°C (cs)
skos:notation	RIV/49777513:23520/08:00500293!RIV09-MSM-23520___
http://linked.open...avai/riv/aktivita	P Z
http://linked.open...avai/riv/aktivity	P(GA106/06/0327), Z(MSM4977751302)
http://linked.open...iv/cisloPeriodika	13
http://linked.open...vai/riv/dodaniDat	2009
http://linked.open...aciTvurceVysledku	Meissner, Michal Musil, Jindřich Čerstvý, Radomír Šícha, Jan
http://linked.open.../riv/druhVysledku	J - Článek v odborném periodiku
http://linked.open...iv/duvernostUdaju	S - Úplné a pravdivé údaje nepodléhající ochraně podle zvláštních právních předpisů
http://linked.open...titaPredkladatele	Západočeská univerzita v Plzni / Fakulta aplikovaných věd
http://linked.open...dnocenehoVysledku	381621
http://linked.open...ai/riv/idVysledku	RIV/49777513:23520/08:00500293
http://linked.open...riv/jazykVysledku	eng - angličtina
http://linked.open.../riv/klicovaSlova	TiO2 film; structure; anatase; UV induced photocatalysis; low-temperature sputtering; dual magnetron (en)
http://linked.open.../riv/klicoveSlovo	dual magnetron structure anatase TiO2 film UV induced photocatalysis low-temperature sputtering
http://linked.open...odStatuVydavatele	NL - Nizozemsko
http://linked.open...ontrolniKodProRIV	[1995D4B3F86D]
http://linked.open...i/riv/nazevZdroje	Applied Surface Science
http://linked.open...in/vavai/riv/obor	BL
http://linked.open...ichTvurcuVysledku	4 (xsd:int)
http://linked.open...cetTvurcuVysledku	4 (xsd:int)
http://linked.open...vavai/riv/projekt	Crystallization of amorphous and nanocrystalline thin films
http://linked.open...UplatneniVysledku	2008
http://linked.open...v/svazekPeriodika	254
http://linked.open...iv/tvurceVysledku	Musil, Jindřich Šícha, Jan Meissner, Michal Čerstvý, Radomír
http://linked.open...ain/vavai/riv/wos	000255344500011
http://linked.open...n/vavai/riv/zamer	Procesy ve výbojovém plazmatu a nové tenkovrstvé materiály s unikátními vlastnostmi
issn	0169-4332
number of pages	8 (xsd:int)
http://localhost/t...ganizacniJednotka	23520

Faceted Search & Find service v1.16.118 as of Jun 21 2024

Alternative Linked Data Documents: ODE Content Formats:

RDF

ODATA

Microdata

About

OpenLink Virtuoso version 07.20.3240 as of Jun 21 2024, on Linux (x86_64-pc-linux-gnu), Single-Server Edition (126 GB total memory, 58 GB memory in use)
Data on this page belongs to its respective rights holders.
Virtuoso Faceted Browser Copyright © 2009-2024 OpenLink Software