Attributes | Values |
---|
rdf:type
| |
Description
| - Článek se podrobně věnuje nízkoteplotní přípravě fotoaktivních vrstev TiO2 připravených pulzním duálním magnetronem a studiu vlivu dodané energie do deponovaných TiO2-x vrstev a jejich vlastností. Hlavní pozornost je věnována studiu vlivu délky pulzu na vlastnosti připravených vrstev. Bylo prokázáno, že (1) snížení délky pulzu výrazně ovlivňuje iontový tok na substrát je možné připravit nanokrystalické TiO2 vrstvy s vysokou fotoaktivitou i při teplotě Tsurf<100°C (2) zvýšení opakovací frekvence zdroje vede ke zvýšení efektivity depozičního procesu a výraznému zvýšení depoziční rychlosti vrstev. (cs)
- The article reports on low-temperature high-rate deposition of hydrophilic TiO2 thin films using dc pulse dual magnetron (DM) sputtering in an Ar+O2 mixture on unheated glass substrates. DM is operated in a bipolar asymmetric mode and is equipped with Ti targets 50mm in diameter. Main attention is concentrated on the investigation of the effect of an energy delivered to the TiO2-x film, growing on unheated and heated substrates, by the ion bombardment on its structure.
- The article reports on low-temperature high-rate deposition of hydrophilic TiO2 thin films using dc pulse dual magnetron (DM) sputtering in an Ar+O2 mixture on unheated glass substrates. DM is operated in a bipolar asymmetric mode and is equipped with Ti targets 50mm in diameter. Main attention is concentrated on the investigation of the effect of an energy delivered to the TiO2-x film, growing on unheated and heated substrates, by the ion bombardment on its structure. (en)
|
Title
| - Role of energy in low-temperature high-rate formation of hydrophylic TiO2 thin films using pulsed magnetron sputtering
- Role of energy in low-temperature high-rate formation of hydrophylic TiO2 thin films using pulsed magnetron sputtering (en)
- Vliv energie při nízkoteplotní vysokorychlostní pulzní magnetronové depozici hydrofilních vrstev TiO2 (cs)
|
skos:prefLabel
| - Role of energy in low-temperature high-rate formation of hydrophylic TiO2 thin films using pulsed magnetron sputtering
- Role of energy in low-temperature high-rate formation of hydrophylic TiO2 thin films using pulsed magnetron sputtering (en)
- Vliv energie při nízkoteplotní vysokorychlostní pulzní magnetronové depozici hydrofilních vrstev TiO2 (cs)
|
skos:notation
| - RIV/49777513:23520/07:00000156!RIV08-MSM-23520___
|
http://linked.open.../vavai/riv/strany
| |
http://linked.open...avai/riv/aktivita
| |
http://linked.open...avai/riv/aktivity
| - P(GA106/06/0327), Z(MSM4977751302)
|
http://linked.open...iv/cisloPeriodika
| |
http://linked.open...vai/riv/dodaniDat
| |
http://linked.open...aciTvurceVysledku
| |
http://linked.open.../riv/druhVysledku
| |
http://linked.open...iv/duvernostUdaju
| |
http://linked.open...titaPredkladatele
| |
http://linked.open...dnocenehoVysledku
| |
http://linked.open...ai/riv/idVysledku
| - RIV/49777513:23520/07:00000156
|
http://linked.open...riv/jazykVysledku
| |
http://linked.open.../riv/klicovaSlova
| - TiO2film; structure; hydrophilicity; deposition rate; unheated substrates; DC pulse reactive sputtering (en)
|
http://linked.open.../riv/klicoveSlovo
| |
http://linked.open...odStatuVydavatele
| - US - Spojené státy americké
|
http://linked.open...ontrolniKodProRIV
| |
http://linked.open...i/riv/nazevZdroje
| - Journal of Vacuum Science and Technology A
|
http://linked.open...in/vavai/riv/obor
| |
http://linked.open...ichTvurcuVysledku
| |
http://linked.open...cetTvurcuVysledku
| |
http://linked.open...vavai/riv/projekt
| |
http://linked.open...UplatneniVysledku
| |
http://linked.open...iv/tvurceVysledku
| - Heřman, David
- Musil, Jindřich
- Šícha, Jan
- Čerstvý, Radomír
|
http://linked.open...n/vavai/riv/zamer
| |
issn
| |
number of pages
| |
http://localhost/t...ganizacniJednotka
| |