Attributes | Values |
---|
rdf:type
| |
Description
| - This article reports on the effect of the energy delivered to a growing film by bombarding ions and fast neutrals on the macrostress and the structure of sputtered films. To demonstrate this effect, we selected Mo-Al-N films with a low Al content reactively sputtered using an unbalanced dc magnetron with a target of 100 m diameter at a high total pressure, low substrate bias and a high substrate ion current density. The main goal of this study was to show the reduction of macrostress in films sputtered at high pressures of several Pa.
- This article reports on the effect of the energy delivered to a growing film by bombarding ions and fast neutrals on the macrostress and the structure of sputtered films. To demonstrate this effect, we selected Mo-Al-N films with a low Al content reactively sputtered using an unbalanced dc magnetron with a target of 100 m diameter at a high total pressure, low substrate bias and a high substrate ion current density. The main goal of this study was to show the reduction of macrostress in films sputtered at high pressures of several Pa. (en)
- Tento článek referuje o vlivu energie dodávané do rostoucí vrstvy bombardujícími ionty a rychlými neutrály na makropnutí a strukturu Mo-Al-N vrstev. Mo-Al-N rstvy byly připraveny metodou reaktivního naprašování pomocí dc nevyváženého magnetronu při vysokém celkovém tlaku, nízkém předpětí na substrátu a vysoké hustotě iontů na substrát. Za těchto podmínek byly úspěšně připraveny vrstvy vykazující zvýšenou tvrdost a velmi nízké tlakové pnutí. To znamená, že zvýšená tvrdost Mo-Al-N vrstev není způsobena mokropnutím, ale jejich nanostrukturou, jak je ukázáno na rentgenových difraktogramech těchto vrstev. Mo-Al-N vrstvy se zvýšenou tvrdostí jsou složené ze směsi zrn s různou krystal (cs)
|
Title
| - Control of macrostress in reactively sputtered Mo-Al-N films by total gas pressure
- Řízení makropnutí v reaktivně naprašovaných Mo-Al-N vrstvách prostřednictvím celkového pracovního tlaku (cs)
- Control of macrostress in reactively sputtered Mo-Al-N films by total gas pressure (en)
|
skos:prefLabel
| - Control of macrostress in reactively sputtered Mo-Al-N films by total gas pressure
- Řízení makropnutí v reaktivně naprašovaných Mo-Al-N vrstvách prostřednictvím celkového pracovního tlaku (cs)
- Control of macrostress in reactively sputtered Mo-Al-N films by total gas pressure (en)
|
skos:notation
| - RIV/49777513:23520/06:00000078!RIV07-MSM-23520___
|
http://linked.open.../vavai/riv/strany
| |
http://linked.open...avai/riv/aktivita
| |
http://linked.open...avai/riv/aktivity
| - P(ME 529), Z(MSM 235200002)
|
http://linked.open...iv/cisloPeriodika
| |
http://linked.open...vai/riv/dodaniDat
| |
http://linked.open...aciTvurceVysledku
| |
http://linked.open.../riv/druhVysledku
| |
http://linked.open...iv/duvernostUdaju
| |
http://linked.open...titaPredkladatele
| |
http://linked.open...dnocenehoVysledku
| |
http://linked.open...ai/riv/idVysledku
| - RIV/49777513:23520/06:00000078
|
http://linked.open...riv/jazykVysledku
| |
http://linked.open.../riv/klicovaSlova
| - Mo-Al-N films; ion bombardment; neutral bombardment; sputtering; macrostress; structure; enhanced hardness (en)
|
http://linked.open.../riv/klicoveSlovo
| |
http://linked.open...odStatuVydavatele
| - US - Spojené státy americké
|
http://linked.open...ontrolniKodProRIV
| |
http://linked.open...i/riv/nazevZdroje
| |
http://linked.open...in/vavai/riv/obor
| |
http://linked.open...ichTvurcuVysledku
| |
http://linked.open...cetTvurcuVysledku
| |
http://linked.open...vavai/riv/projekt
| |
http://linked.open...UplatneniVysledku
| |
http://linked.open...iv/tvurceVysledku
| - Musil, Jindřich
- Šůna, Jan
- Dohnal, Pavel
|
http://linked.open...n/vavai/riv/zamer
| |
issn
| |
number of pages
| |
http://localhost/t...ganizacniJednotka
| |