Attributes | Values |
---|
rdf:type
| |
Description
| - Ověřená technologie nanášení tenkých dielektrických vrstev (nm) na křemíkové substráty modifikovanou technologií PVD (Physical Vapor Deposition), která v sobě zahrnuje možnost plazmochemického čištění povrchu s následným naprášením tenké vrstvy. Proces bude uskutečňován v jednom pracovním cyklu. Hlavní předností technologie je vysoká homogenita nanášených vrstev, procesní variabilita a velmi dobrá kontrolovatelnost depozice.
- Ověřená technologie nanášení tenkých dielektrických vrstev (nm) na křemíkové substráty modifikovanou technologií PVD (Physical Vapor Deposition), která v sobě zahrnuje možnost plazmochemického čištění povrchu s následným naprášením tenké vrstvy. Proces bude uskutečňován v jednom pracovním cyklu. Hlavní předností technologie je vysoká homogenita nanášených vrstev, procesní variabilita a velmi dobrá kontrolovatelnost depozice. (cs)
- Verified technology of thin dielectric layers application on silicon substrate deposited by modified PVD (Physical Vapor Deposition), which implies the possibility of plasma surface cleaning followed by sputtering a thin layer. The process will be carried out in one operation. A main advantage of the technology is a high homogenity of deposited layers, process variability and very good controllability of deposition. (en)
|
Title
| - Verified technology of thin dielectric layers application on silicon substrate deposited by modified PVD (Physical Vapor Deposition). (en)
- Ověřená technologie nanášení tenkých dielektrických vrstev (nm) na křemíkové substráty modifikovanou technologií PVD (Physical Vapor Deposition).
- Ověřená technologie nanášení tenkých dielektrických vrstev (nm) na křemíkové substráty modifikovanou technologií PVD (Physical Vapor Deposition). (cs)
|
skos:prefLabel
| - Verified technology of thin dielectric layers application on silicon substrate deposited by modified PVD (Physical Vapor Deposition). (en)
- Ověřená technologie nanášení tenkých dielektrických vrstev (nm) na křemíkové substráty modifikovanou technologií PVD (Physical Vapor Deposition).
- Ověřená technologie nanášení tenkých dielektrických vrstev (nm) na křemíkové substráty modifikovanou technologií PVD (Physical Vapor Deposition). (cs)
|
skos:notation
| - RIV/49610040:_____/13:*0000111!RIV14-MPO-49610040
|
http://linked.open...avai/riv/aktivita
| |
http://linked.open...avai/riv/aktivity
| |
http://linked.open...vai/riv/dodaniDat
| |
http://linked.open...aciTvurceVysledku
| |
http://linked.open.../riv/druhVysledku
| |
http://linked.open...iv/duvernostUdaju
| |
http://linked.open...onomickeParametry
| - Ověřená technologie bude využita realizátorem výsledku při řešení komerčních zakázek na výrobu zákaznických solárních článků a FV modulů. Dále bude technologie využita realizátorem pro vývoj nových pokročilých technologií výroby solárních článků s vysokou konverzní účinností.
|
http://linked.open...titaPredkladatele
| |
http://linked.open...dnocenehoVysledku
| |
http://linked.open...ai/riv/idVysledku
| - RIV/49610040:_____/13:*0000111
|
http://linked.open...terniIdentifikace
| |
http://linked.open...riv/jazykVysledku
| |
http://linked.open...vai/riv/kategorie
| |
http://linked.open.../riv/klicovaSlova
| - solar cell; PVD; sputtering; dielectric layers (en)
|
http://linked.open.../riv/klicoveSlovo
| |
http://linked.open...ontrolniKodProRIV
| |
http://linked.open.../licencniPoplatek
| |
http://linked.open...in/vavai/riv/obor
| |
http://linked.open...ichTvurcuVysledku
| |
http://linked.open...cetTvurcuVysledku
| |
http://linked.open...vavai/riv/projekt
| |
http://linked.open...UplatneniVysledku
| |
http://linked.open...echnickeParametry
| - Ověřená technologie byla realizována za pomoci modifikovaného depozičního zařízení pracujícího na principu depozice z pevné fáze (PVD). Výsledek slouží k vlastnímu využití a byla podepsána Smlouva o využití výsledků výzkumu a vývoje 2012/FR-TI1/603, s MPO ze dne 26.3.2013 . Kontaktní osoba: Ing. Renáta Zetková, tel: 601375825, email: renata.zetkova@solartec.cz
|
http://linked.open...iv/tvurceVysledku
| - Bařinka, Radim
- Sobota, Jaroslav
- Čech, Pavel
- Vyskočil, Jiří
- Kadlec, Stanislav
- Hégr, Ondřej
|
http://linked.open...avai/riv/vlastnik
| |
http://linked.open...itiJinymSubjektem
| |