Attributes | Values |
---|
rdf:type
| |
Description
| - For practical exploitation of photocatalytic TiO2 is necessary handling of technology that enables depositioon of such thin TiO2 layers with satisfactory photocatalytic activity and adhesion to substrate. Depositions conditions should be such to enable use them for temeperature senyitive substrates as well. These requirements can be achieved at deposition of TiO2 layers by PECVD method(Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition) whith suitable choiced deposition conditions. Limiting factor for high phjotoactivity achieving is first of all temeperature, whioch has basic effect on growth of crystalline structure necessary for photocatalytic activity. (en)
- Pro praktické využití fotokatalytického TiO2 je nutné zvládnutí technologie, která zajistí depozici tenkých TiO2 vrstev s dostatečnou fotokatalytickou aktivitou a adhezí k substrátu. Podmínky depozic by měly být takové, aby bylo možno použít i teplotně citlivé substráty. Těchto požadavků je možno docílit při depozici TiO2 vrstev metodou PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition) s vhodně zvolenými depozičními podmínkami. Omezujícím faktorem pro dosažení vysoké fotoaktivity je především teplota, která má zásadní vliv na růst krystalové struktury nezbytné pro fotokatalytickou aktivitu.
- Pro praktické využití fotokatalytického TiO2 je nutné zvládnutí technologie, která zajistí depozici tenkých TiO2 vrstev s dostatečnou fotokatalytickou aktivitou a adhezí k substrátu. Podmínky depozic by měly být takové, aby bylo možno použít i teplotně citlivé substráty. Těchto požadavků je možno docílit při depozici TiO2 vrstev metodou PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition) s vhodně zvolenými depozičními podmínkami. Omezujícím faktorem pro dosažení vysoké fotoaktivity je především teplota, která má zásadní vliv na růst krystalové struktury nezbytné pro fotokatalytickou aktivitu. (cs)
|
Title
| - Modifikace povrchu tenkých vrstev TiO2/PECVD.
- Modifikace povrchu tenkých vrstev TiO2/PECVD. (cs)
- Surface modification of thin layers TiO2/PECVD. (en)
|
skos:prefLabel
| - Modifikace povrchu tenkých vrstev TiO2/PECVD.
- Modifikace povrchu tenkých vrstev TiO2/PECVD. (cs)
- Surface modification of thin layers TiO2/PECVD. (en)
|
skos:notation
| - RIV/46747885:24210/08:#0000404!RIV09-MSM-24210___
|
http://linked.open...avai/riv/aktivita
| |
http://linked.open...avai/riv/aktivity
| - P(1M0577), P(KAN101120701)
|
http://linked.open...vai/riv/dodaniDat
| |
http://linked.open...aciTvurceVysledku
| |
http://linked.open.../riv/druhVysledku
| |
http://linked.open...iv/duvernostUdaju
| |
http://linked.open...titaPredkladatele
| |
http://linked.open...dnocenehoVysledku
| |
http://linked.open...ai/riv/idVysledku
| - RIV/46747885:24210/08:#0000404
|
http://linked.open...riv/jazykVysledku
| |
http://linked.open.../riv/klicovaSlova
| - TiO2; photocatalysis; thin films; PECVD (en)
|
http://linked.open.../riv/klicoveSlovo
| |
http://linked.open...ontrolniKodProRIV
| |
http://linked.open...v/mistoKonaniAkce
| |
http://linked.open...i/riv/mistoVydani
| |
http://linked.open...i/riv/nazevZdroje
| - Nanomateriály a Fotokatalýza : 2. Seminář centra Nanopin.
|
http://linked.open...in/vavai/riv/obor
| |
http://linked.open...ichTvurcuVysledku
| |
http://linked.open...cetTvurcuVysledku
| |
http://linked.open...vavai/riv/projekt
| |
http://linked.open...UplatneniVysledku
| |
http://linked.open...iv/tvurceVysledku
| - Hájková, Pavlína
- Špatenka, Petr
- Kolouch, Aleš
- Exnar, P.
- Krumeich, J.
|
http://linked.open...vavai/riv/typAkce
| |
http://linked.open.../riv/zahajeniAkce
| |
number of pages
| |
http://purl.org/ne...btex#hasPublisher
| - Vysoká škola chemicko-technologická v Praze
|
https://schema.org/isbn
| |
http://localhost/t...ganizacniJednotka
| |