Attributes | Values |
---|
rdf:type
| |
Description
| - The direct current bias has been reported as a necessary condition for aligned growth of carbon nanotubes. To clarify the mechanisms ofnanotube alignment we performed numerical calculations of the electrical field in the collisional sheath and the resultng electric force actingon the metallic droplet on the nanotube tip. Based on the model calculation, dependences of the force on various parameters, e.g. distancebetween nanotubes, height of nanotubes and form of their tips, is discussed in detail. The teoretical model also predicts how this forcedepends on the direct current bias and the resistivity of the biased substrate.
- The direct current bias has been reported as a necessary condition for aligned growth of carbon nanotubes. To clarify the mechanisms ofnanotube alignment we performed numerical calculations of the electrical field in the collisional sheath and the resultng electric force actingon the metallic droplet on the nanotube tip. Based on the model calculation, dependences of the force on various parameters, e.g. distancebetween nanotubes, height of nanotubes and form of their tips, is discussed in detail. The teoretical model also predicts how this forcedepends on the direct current bias and the resistivity of the biased substrate. (en)
- Stejnosměrný bias byl ohlášen jajko nutná podmínka pro vyrovnaný růst uhlíkových nanotrubiček. K objasnění mechanismu uspořádání nanotrubiček jsme provedli numerické výpočty elektrického pole v kolizním pouzdře a výsledné elektrické síly působící na kopvé kapky na vrcholku nanotrubičky. Na základě modelových výpočtů , závislosti síly na různých parametrech, např. vzdálenosti mezi nanotrubičkami, výšky nanotrubiček a tvaru jejich vrcholků se podrobně diskutují. Teoretický model též předvídá jak tato sía závisí na stejnosměrném biasu a měrném odporu biasového substrátu. (cs)
|
Title
| - Computations of local electric field and electric forces acting on carbon nanotubes in a DC plasma sheath.
- Computations of local electric field and electric forces acting on carbon nanotubes in a DC plasma sheath. (en)
- Výpočty lokálního elektrického pole a elektrických sil působících na uhlíkové nanotrubičky v stejnosměrné plazmě. (cs)
|
skos:prefLabel
| - Computations of local electric field and electric forces acting on carbon nanotubes in a DC plasma sheath.
- Computations of local electric field and electric forces acting on carbon nanotubes in a DC plasma sheath. (en)
- Výpočty lokálního elektrického pole a elektrických sil působících na uhlíkové nanotrubičky v stejnosměrné plazmě. (cs)
|
skos:notation
| - RIV/46747885:24210/05:24210210!RIV06-MSM-24210___
|
http://linked.open.../vavai/riv/strany
| |
http://linked.open...avai/riv/aktivita
| |
http://linked.open...avai/riv/aktivity
| |
http://linked.open...iv/cisloPeriodika
| |
http://linked.open...vai/riv/dodaniDat
| |
http://linked.open...aciTvurceVysledku
| |
http://linked.open.../riv/druhVysledku
| |
http://linked.open...iv/duvernostUdaju
| |
http://linked.open...titaPredkladatele
| |
http://linked.open...dnocenehoVysledku
| |
http://linked.open...ai/riv/idVysledku
| - RIV/46747885:24210/05:24210210
|
http://linked.open...riv/jazykVysledku
| |
http://linked.open.../riv/klicovaSlova
| - %22Carbon nanotubes; Plasma processing and deposition; Electrical properties and measurements%22 (en)
|
http://linked.open.../riv/klicoveSlovo
| |
http://linked.open...odStatuVydavatele
| |
http://linked.open...ontrolniKodProRIV
| |
http://linked.open...i/riv/nazevZdroje
| |
http://linked.open...in/vavai/riv/obor
| |
http://linked.open...ichTvurcuVysledku
| |
http://linked.open...cetTvurcuVysledku
| |
http://linked.open...vavai/riv/projekt
| |
http://linked.open...UplatneniVysledku
| |
http://linked.open...v/svazekPeriodika
| |
http://linked.open...iv/tvurceVysledku
| - Blažek, Josef
- Špatenka, Petr
- Pácal, František
- Taeschner, Christine
- Leonhardt, A.
|
issn
| |
number of pages
| |
http://localhost/t...ganizacniJednotka
| |