| Attributes | Values |
|---|
| rdf:type
| |
| Description
| - Aplikace plazmové diagnostiky pro výbvoj procesu. Ukazjuuje se, že hustota iontů a elektronů jsou vhodným parametrem pro charakterizaci plazmy. Tato hodnota je citlivá ke změnám většiny procesních parametrů jako jsou konfigurace reaktoru, výkon dodávanývýboji a náhodné jevy jako je výskyt jisker. Použití tohoto diagnostického nástroje je demostrováno na vzniku nabitých částic v hromadném plazmovém polymerizačním procesu a na charakterizaci příspěvků určitých plazmových zdrojů k tvorbě nabitých částicv duálním mikrovlno/radiofrekvenčním depozičním systému použitém pro vývoj povlaků odolných proti poškrábání pro plastové díly, užitečné pro řízení procesu a jeho vývoj. Monitoring určitých aktivních částic se používá pro řízení jednoduchých procesů.[nap.. 4]. Pro složitější procesy často není znám základní precursor. V takových případech může monitorování komplexního parametru, jako je hustota elektronů, poskytnout platnou informaci. (cs)
- Application of plasma diagnostic for process development is described. The electron and/or ion density is shown to be a proper parameter for plasma characterization. This value is sensitive to changes of most process parameters like reactor configurationpower delivered into the discharge, and accidental events like sparks appearance as well. The application of this diagnostic tool is demonstrated on development of large-scale plasma polymerization process and on characterization of particular plasma sources contribution to production of charged particles in dual microwave/radiofrequency deposition system used for development of scratch-resistant coatings for plastic parts. helpful for process control and process development. Monitoring of particular ative particles is used for control of simple processes [e.g. 4]. For more complex processes the principle precursor is often not known. For such events monitoring of a complex parameter like electron density may yield useful information.
- Application of plasma diagnostic for process development is described. The electron and/or ion density is shown to be a proper parameter for plasma characterization. This value is sensitive to changes of most process parameters like reactor configurationpower delivered into the discharge, and accidental events like sparks appearance as well. The application of this diagnostic tool is demonstrated on development of large-scale plasma polymerization process and on characterization of particular plasma sources contribution to production of charged particles in dual microwave/radiofrequency deposition system used for development of scratch-resistant coatings for plastic parts. helpful for process control and process development. Monitoring of particular ative particles is used for control of simple processes [e.g. 4]. For more complex processes the principle precursor is often not known. For such events monitoring of a complex parameter like electron density may yield useful information. (en)
|
| Title
| - Plasmová diagnostika pro rozvoj a optimalizaci plazmou aktivovaných depozičních procesů. (cs)
- Plasma diagnostic for development and optimization of plasma activated deposition processes.
- Plasma diagnostic for development and optimization of plasma activated deposition processes. (en)
|
| skos:prefLabel
| - Plasmová diagnostika pro rozvoj a optimalizaci plazmou aktivovaných depozičních procesů. (cs)
- Plasma diagnostic for development and optimization of plasma activated deposition processes.
- Plasma diagnostic for development and optimization of plasma activated deposition processes. (en)
|
| skos:notation
| - RIV/46747885:24210/04:24210192!RIV/2005/MSM/242105/N
|
| http://linked.open.../vavai/riv/strany
| |
| http://linked.open...avai/riv/aktivita
| |
| http://linked.open...avai/riv/aktivity
| |
| http://linked.open...vai/riv/dodaniDat
| |
| http://linked.open...aciTvurceVysledku
| |
| http://linked.open.../riv/druhVysledku
| |
| http://linked.open...iv/duvernostUdaju
| |
| http://linked.open...titaPredkladatele
| |
| http://linked.open...dnocenehoVysledku
| |
| http://linked.open...ai/riv/idVysledku
| - RIV/46747885:24210/04:24210192
|
| http://linked.open...riv/jazykVysledku
| |
| http://linked.open.../riv/klicovaSlova
| - %22plasma;diagniostics;PVD PECVD;%22 (en)
|
| http://linked.open.../riv/klicoveSlovo
| |
| http://linked.open...ontrolniKodProRIV
| |
| http://linked.open...v/mistoKonaniAkce
| - Albuquerque, NM 87122-1914 U.S.A.
|
| http://linked.open...i/riv/mistoVydani
| - Albuquerque, NM 87122-1914 U.S.A.
|
| http://linked.open...i/riv/nazevZdroje
| - 47th Annual Technical Conference Proceedings (2004)
|
| http://linked.open...in/vavai/riv/obor
| |
| http://linked.open...ichTvurcuVysledku
| |
| http://linked.open...cetTvurcuVysledku
| |
| http://linked.open...vavai/riv/projekt
| |
| http://linked.open...UplatneniVysledku
| |
| http://linked.open...iv/tvurceVysledku
| - Špatenka, Petr
- Kolouch, Aleš
- Nauenburg, K. D.
- Schmauder, T.
|
| http://linked.open...vavai/riv/typAkce
| |
| http://linked.open.../riv/zahajeniAkce
| |
| issn
| |
| number of pages
| |
| http://purl.org/ne...btex#hasPublisher
| - Society of Vacuum Coaters
|
| http://localhost/t...ganizacniJednotka
| |
![[RDF Data]](/fct/images/sw-rdf-blue.png)
![[cxml]](/fct/images/cxml_doc.png)
![[csv]](/fct/images/csv_doc.png)
![[text]](/fct/images/ntriples_doc.png)
![[turtle]](/fct/images/n3turtle_doc.png)
![[ld+json]](/fct/images/jsonld_doc.png)
![[rdf+json]](/fct/images/json_doc.png)
![[rdf+xml]](/fct/images/xml_doc.png)
![[atom+xml]](/fct/images/atom_doc.png)
![[html]](/fct/images/html_doc.png)