About: Operating process description for forming solar cell structures with shallow phosphorus emitter with uniformity of layer resistance on all single Si wafer`s surface up to +/- 3 Ohm/square     Goto   Sponge   NotDistinct   Permalink

An Entity of Type : http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/Vysledek, within Data Space : linked.opendata.cz associated with source document(s)

AttributesValues
rdf:type
Description
  • A technology of forming solar cell structures with shallow phosphorus emitter with uniformity of layer resistance on all single Si wafer`s surface (up to 300 pcs of dimension 156 x 156 mm) up to +/- 3 Ohm/square was developed. Operating process description specifies details of forming desired structers of solar cells with shallow emitter. (en)
  • Byla vyvinuta technologie pro vytváření struktur solárních článků s mělkým fosforovým emitorem s homogenitou vrstvového odporu po ploše všech jednotlivých Si desek (až 300 ks s rozměrem 156 x 156 mm) do +/- 3 Ohm/čtverec. Procesní návodka specifikuje detaily přípravy požadovaných struktur solárních článků s mělkým emitorem.
  • Byla vyvinuta technologie pro vytváření struktur solárních článků s mělkým fosforovým emitorem s homogenitou vrstvového odporu po ploše všech jednotlivých Si desek (až 300 ks s rozměrem 156 x 156 mm) do +/- 3 Ohm/čtverec. Procesní návodka specifikuje detaily přípravy požadovaných struktur solárních článků s mělkým emitorem. (cs)
Title
  • Operating process description for forming solar cell structures with shallow phosphorus emitter with uniformity of layer resistance on all single Si wafer`s surface up to +/- 3 Ohm/square (en)
  • Procesní návodka pro vytváření struktur solárních článků s mělkým fosforovým emitorem s homogenitou vrstvového odporu po ploše všech jednotlivých Si desek do +/- 3 Ohm/čtverec
  • Procesní návodka pro vytváření struktur solárních článků s mělkým fosforovým emitorem s homogenitou vrstvového odporu po ploše všech jednotlivých Si desek do +/- 3 Ohm/čtverec (cs)
skos:prefLabel
  • Operating process description for forming solar cell structures with shallow phosphorus emitter with uniformity of layer resistance on all single Si wafer`s surface up to +/- 3 Ohm/square (en)
  • Procesní návodka pro vytváření struktur solárních článků s mělkým fosforovým emitorem s homogenitou vrstvového odporu po ploše všech jednotlivých Si desek do +/- 3 Ohm/čtverec
  • Procesní návodka pro vytváření struktur solárních článků s mělkým fosforovým emitorem s homogenitou vrstvového odporu po ploše všech jednotlivých Si desek do +/- 3 Ohm/čtverec (cs)
skos:notation
  • A-2013-12-9-SVMP-Sol-01
  • RIV/27711170:_____/13:#0000033!RIV14-TA0-27711170
http://linked.open...avai/riv/aktivita
http://linked.open...avai/riv/aktivity
  • P(TA01020972)
http://linked.open...certifikacniOrgan
  • SVCS Process Innovation, Optátova 37, Brno 637 00
http://linked.open.../datumCertifikace
http://linked.open...vai/riv/dodaniDat
http://linked.open...aciTvurceVysledku
http://linked.open.../riv/druhVysledku
http://linked.open...iv/duvernostUdaju
http://linked.open...onomickeParametry
  • Zvýšení homogenity vrstvového odporu má pozitivní vliv jak na zvýšení účinnosti solárních článků, tak na zvýšení efektivity výroby článků samotných. Vyšší účinnost solárních článků přináší pozitivní ekonomický efekt (vyšší prodejní cena).
http://linked.open...titaPredkladatele
http://linked.open...dnocenehoVysledku
  • 99922
http://linked.open...ai/riv/idVysledku
  • RIV/27711170:_____/13:#0000033
http://linked.open...terniIdentifikace
  • SVMP-Sol-01
http://linked.open...riv/jazykVysledku
http://linked.open.../riv/klicovaSlova
  • uniformity of layer resistance; solar cells structures with shallow phosphorus emitter (en)
http://linked.open.../riv/klicoveSlovo
http://linked.open...ontrolniKodProRIV
  • [9A9DFCE3BD14]
http://linked.open...in/vavai/riv/obor
http://linked.open...ichTvurcuVysledku
http://linked.open...cetTvurcuVysledku
http://linked.open...vavai/riv/projekt
http://linked.open...UplatneniVysledku
http://linked.open...echnickeParametry
  • Lze dosáhnout homogenity vrstvového odporu po ploše všech jednotlivých Si desek (až 300 ks s rozměrem 156 x 156 mm) do +/- 3 Ohm/čtverec.
http://linked.open...iv/tvurceVysledku
  • Bařinka, Radim
  • Bařinková, Pavlína
  • Poruba, Aleš
  • Čech, Pavel
  • Piják, Anton
  • Pitrun, Jiří
Faceted Search & Find service v1.16.118 as of Jun 21 2024


Alternative Linked Data Documents: ODE     Content Formats:   [cxml] [csv]     RDF   [text] [turtle] [ld+json] [rdf+json] [rdf+xml]     ODATA   [atom+xml] [odata+json]     Microdata   [microdata+json] [html]    About   
This material is Open Knowledge   W3C Semantic Web Technology [RDF Data] Valid XHTML + RDFa
OpenLink Virtuoso version 07.20.3240 as of Jun 21 2024, on Linux (x86_64-pc-linux-gnu), Single-Server Edition (126 GB total memory, 58 GB memory in use)
Data on this page belongs to its respective rights holders.
Virtuoso Faceted Browser Copyright © 2009-2024 OpenLink Software