About: Prototyp vertikální PECVD pece pro depozice tenkých dielektrických vrstev v aplikacích pro polovodičový průmysl     Goto   Sponge   NotDistinct   Permalink

An Entity of Type : http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/Vysledek, within Data Space : linked.opendata.cz associated with source document(s)

AttributesValues
rdf:type
Description
  • A prototype of vertical PECVD furnace for depositon of thin dielectric films for semiconductor industry was developed and a technology of plasma deposition of pasivation and antireflective films was designed, verified and implemented into production process of crystalline silicon solar cells. (en)
  • Byl vyvinut a sestaven prototyp vertikální PECVD pece pro depozice tenkých dielektrických vrstev pro polovodičový průmysl a byla vyvinuta, ověřena a implementována technologie plazmatické depozice pasivačních a antireflexních vrstev do procesu výroby krystalických křemíkových solárních článků.
  • Byl vyvinut a sestaven prototyp vertikální PECVD pece pro depozice tenkých dielektrických vrstev pro polovodičový průmysl a byla vyvinuta, ověřena a implementována technologie plazmatické depozice pasivačních a antireflexních vrstev do procesu výroby krystalických křemíkových solárních článků. (cs)
Title
  • Prototyp vertikální PECVD pece pro depozice tenkých dielektrických vrstev v aplikacích pro polovodičový průmysl
  • Prototyp vertikální PECVD pece pro depozice tenkých dielektrických vrstev v aplikacích pro polovodičový průmysl (cs)
  • Prototype of vertical PECVD reactor for depositon of thin dielectric films in aplications for semiconductor industry (en)
skos:prefLabel
  • Prototyp vertikální PECVD pece pro depozice tenkých dielektrických vrstev v aplikacích pro polovodičový průmysl
  • Prototyp vertikální PECVD pece pro depozice tenkých dielektrických vrstev v aplikacích pro polovodičový průmysl (cs)
  • Prototype of vertical PECVD reactor for depositon of thin dielectric films in aplications for semiconductor industry (en)
skos:notation
  • RIV/27711170:_____/12:#0000025!RIV13-MPO-27711170
http://linked.open...avai/riv/aktivita
http://linked.open...avai/riv/aktivity
  • P(FR-TI1/619)
http://linked.open...vai/riv/dodaniDat
http://linked.open...aciTvurceVysledku
http://linked.open.../riv/druhVysledku
http://linked.open...iv/duvernostUdaju
http://linked.open...onomickeParametry
  • Zavedením výroby а prodeje PECVD pece společně s uplatněnou technologií PECVD depozice a-SiNx:H vrstev při výrobě vysoce účinných solárních článků spolu se zavedením metodiky pro vyhodnocení tloušťky, indexu lomu a pasivačních vlastností takto připravených PECVD pasivačních a antireflexních vrstev se v následujícím roce předpokládá nárůst prodeje v segmentu depozičních reaktorů až o 17%.
http://linked.open...titaPredkladatele
http://linked.open...dnocenehoVysledku
  • 163177
http://linked.open...ai/riv/idVysledku
  • RIV/27711170:_____/12:#0000025
http://linked.open...terniIdentifikace
  • SVFUR_PECVD_VR_2010
http://linked.open...riv/jazykVysledku
http://linked.open...vai/riv/kategorie
http://linked.open.../riv/klicovaSlova
  • PECVD; vertical furnace; semiconductor industry; photovoltaic industry; deposition of thin films; plasma processes (en)
http://linked.open.../riv/klicoveSlovo
http://linked.open...ontrolniKodProRIV
  • [88664D904A71]
http://linked.open...in/vavai/riv/obor
http://linked.open...ichTvurcuVysledku
http://linked.open...cetTvurcuVysledku
http://linked.open...vavai/riv/projekt
http://linked.open...UplatneniVysledku
http://linked.open...echnickeParametry
  • Vertikální reaktor umožňující plazmatickou depozici a-SiNx:H vrstev s homogenitou lepší než 3% po celé ploše substrátu a 3% v celém rozsahu výrobní dávky 102 substrátů C-Si. Výsledek byl vyzkoušen a ověřen pro zavedení do výroby. Výsledek je využíván pouze příjemcem dle smlouvy O Využití výsledků výzkumu a vývoje č. 2012/FR-TI1/619 ze dne 28.12.2012 uzavřené s MPO. Kontaktní osoba Bc. Zuzana Andrisová, 775 757 201, zandrisova@svcs.cz
http://linked.open...iv/tvurceVysledku
  • Vaněk, Jan
  • Dolák, Jaroslav
  • Halmazňa, Jiří
  • Joštič, Miroslav
  • Klanica, Tomáš
  • Konečný, Ladislav
  • Mareš, Gustav
  • Petřvalský, Aleš
  • Pitrun, Jiří
  • Pobořil, Ladislav
  • Poruba, A.
  • Rek, Štěpán
  • Šrámek, Miroslav
  • Štěpánek, Jaroslav
  • Jakeš, Jakub
  • Martínek, Pavel
  • Brettšnajdr, Antonín
  • Hrnko, Lukáš
  • Křenek, Zdeněk
http://linked.open...avai/riv/vlastnik
http://linked.open...itiJinymSubjektem
Faceted Search & Find service v1.16.118 as of Jun 21 2024


Alternative Linked Data Documents: ODE     Content Formats:   [cxml] [csv]     RDF   [text] [turtle] [ld+json] [rdf+json] [rdf+xml]     ODATA   [atom+xml] [odata+json]     Microdata   [microdata+json] [html]    About   
This material is Open Knowledge   W3C Semantic Web Technology [RDF Data] Valid XHTML + RDFa
OpenLink Virtuoso version 07.20.3240 as of Jun 21 2024, on Linux (x86_64-pc-linux-gnu), Single-Server Edition (126 GB total memory, 58 GB memory in use)
Data on this page belongs to its respective rights holders.
Virtuoso Faceted Browser Copyright © 2009-2024 OpenLink Software