About: Technologický postup přípravy ZnO vrstev MW PECVD metodou s definovanou vodivosti a velikosti zrna

Facets (new session)
Description
Metadata
Settings
- owl:sameAs
- Inference Rule:

About: Technologický postup přípravy ZnO vrstev MW PECVD metodou s definovanou vodivosti a velikosti zrna Goto Sponge NotDistinct Permalink

An Entity of Type : http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/Vysledek, within Data Space : linked.opendata.cz associated with source document(s)

Attributes	Values
rdf:type	skos:Concept http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/Vysledek
Description	Byla vyvinuta plazmová PECVD technologie pripravy tenkych vrstev ZnO dopovanych Al v mikrovlnnem vyboji s povrchovou vlnou a plazmovým proudícím kanálem. Pomocí tohoto technologickeho postupu lze kontrolou podmínek při procesu dosáhnout definované velikosti krystalického zrna, elektrické vodivosti vrstvy a její tloušťky. Byla vyvinuta plazmová PECVD technologie pripravy tenkych vrstev ZnO dopovanych Al v mikrovlnnem vyboji s povrchovou vlnou a plazmovým proudícím kanálem. Pomocí tohoto technologickeho postupu lze kontrolou podmínek při procesu dosáhnout definované velikosti krystalického zrna, elektrické vodivosti vrstvy a její tloušťky. (cs) The plasma PECVD technology was developed for the deposition of ZnO thin films doped by Al. Microwave plasma jet generated by a surface wave is employed for this purpose. If the deposition conditions are controlled, It is possible to achieve defined sizes of crystallites, defined electrical conductivity and film thickeness. (en)
Title	Technologický postup přípravy ZnO vrstev MW PECVD metodou s definovanou vodivosti a velikosti zrna Technologický postup přípravy ZnO vrstev MW PECVD metodou s definovanou vodivosti a velikosti zrna (cs) Technology of ZnO films preparation by MW PECVD with defined conductivity and grain size (en)
skos:prefLabel	Technologický postup přípravy ZnO vrstev MW PECVD metodou s definovanou vodivosti a velikosti zrna Technologický postup přípravy ZnO vrstev MW PECVD metodou s definovanou vodivosti a velikosti zrna (cs) Technology of ZnO films preparation by MW PECVD with defined conductivity and grain size (en)
skos:notation	A-MWZnO-2012-01 RIV/27711170:_____/12:#0000019!RIV13-TA0-27711170
http://linked.open...avai/riv/aktivita	P
http://linked.open...avai/riv/aktivity	P(TA01011740)
http://linked.open...certifikacniOrgan	SVCS Process Innovation s.r.o.
http://linked.open.../datumCertifikace	2012-12-13 (xsd:date)
http://linked.open...vai/riv/dodaniDat	2013
http://linked.open...aciTvurceVysledku	Piják, Anton Pitrun, Jiří
http://linked.open.../riv/druhVysledku	N/A - Uplatněná certifikovaná metodika
http://linked.open...iv/duvernostUdaju	C - Předmět podléhá obchodnímu tajemství (§17 až 20 Obchodního zákoníku), ale některé údaje jsou upraveny tak, aby byly zveřejnitelné
http://linked.open...onomickeParametry	Metodika bude sloužit jako podpůrný produkt prodeje MWPECVD zařízení. V rámci implementace certifikované metodiky do zmíněného MWPECVD zařízení očekáváme navýšení ceny tohoto zařízení cca o 4%.
http://linked.open...titaPredkladatele	SVCS Process Innovation s.r.o.
http://linked.open...dnocenehoVysledku	173458
http://linked.open...ai/riv/idVysledku	RIV/27711170:_____/12:#0000019
http://linked.open...terniIdentifikace	MWZnO-2012-01
http://linked.open...riv/jazykVysledku	cze - čeština
http://linked.open.../riv/klicovaSlova	deposition; plasma; MWPECVD technology; thin films (en)
http://linked.open.../riv/klicoveSlovo	plasma deposition thin films MWPECVD technology
http://linked.open...ontrolniKodProRIV	[1C7EF206D9F1]
http://linked.open...in/vavai/riv/obor	BL
http://linked.open...ichTvurcuVysledku	2 (xsd:int)
http://linked.open...cetTvurcuVysledku	7 (xsd:int)
http://linked.open...vavai/riv/projekt	Hybrid high-density low-temperature microwave plasma sources in matrix configuration suitable for growth of advanced materials and their (nano) composites on 2D and 3D substrates
http://linked.open...UplatneniVysledku	2012
http://linked.open...echnickeParametry	Byla vyvinuta plazmová PECVD technologie pripravy tenkych vrstev ZnO dopovanych Al v mikrovlnnem vyboji s povrchovou vlnou a plazmovým proudícím kanálem. Pomocí tohoto technologickeho postupu lze kontrolou podmínek při procesu dosáhnout definované velikosti krystalického zrna, elektrické vodivosti vrstvy a její tloušťky
http://linked.open...iv/tvurceVysledku	Kromka, Alexander Šmíd, Jiří Hubička, Zdeněk Čada, Martin Potocký, Štěpán Pitrun, Jiří Piják, Antonín

Faceted Search & Find service v1.16.118 as of Jun 21 2024

Alternative Linked Data Documents: ODE Content Formats:

RDF

ODATA

Microdata

About

OpenLink Virtuoso version 07.20.3240 as of Jun 21 2024, on Linux (x86_64-pc-linux-gnu), Single-Server Edition (126 GB total memory, 46 GB memory in use)
Data on this page belongs to its respective rights holders.
Virtuoso Faceted Browser Copyright © 2009-2024 OpenLink Software