| Attributes | Values |
|---|
| rdf:type
| |
| rdfs:seeAlso
| |
| Description
| - V posledních letech se výzkum a vývoj v oblasti přípravy tenkých oxidických vrstev a povlaků moderními elektrochemickými, chemickými nebo fyzikálními technikami orientuje na zlepšení chemických a fyzikálních vlastností povlakovaných povrchů za účelem dosažení zvýšení jejich životnosti a funkčnosti pro daný typ aplikace. Součástí požadavků hodnocení povrchových vrstev a povlaků v závislosti na požadované kvalitě zahrnující fyzikálně, chemické a strukturní vlastnosti je důležitý vhodný výběr analytických metod umožňující komplexní charakterizaci deponovaných tenkých vrstev. Kvantitativní hloubkový profil pro různé druhy povlaků a tenké oxidické vrstvy je stále častěji identifikován s využitím techniky optické emisní spektrometrie s buzením doutnavých výbojem (GDOES). Její výhody jsou zejména spatřovány ve srovnání s technikami AES, SIMS, XPS, RBS v jedinečné kombinaci vysoké odprašovací rychlosti, odprašovací hloubky, citlivosti metody, analýzy nevodivých vrstev a snadné kvantifikaci lehkých prvků (C, N, O, H). Předkládaný článek shrnuje současné aplikované metody techniky GDOES umožňující charakterizovat vlastnosti tenkých vrstev a povlaků s důrazem na možné využití výsledků ve výrobním průmyslu. Hloubkové koncentrační profily byly stanoveny u povlaků připravených technikou CVD (chemical vapour deposition) a PVD (physical vapour deposition), naválcované cladové vrstvy a tenké oxidické vrstvy vzniklé při válcování za tepla a nedokonalém procesu moření.
- V posledních letech se výzkum a vývoj v oblasti přípravy tenkých oxidických vrstev a povlaků moderními elektrochemickými, chemickými nebo fyzikálními technikami orientuje na zlepšení chemických a fyzikálních vlastností povlakovaných povrchů za účelem dosažení zvýšení jejich životnosti a funkčnosti pro daný typ aplikace. Součástí požadavků hodnocení povrchových vrstev a povlaků v závislosti na požadované kvalitě zahrnující fyzikálně, chemické a strukturní vlastnosti je důležitý vhodný výběr analytických metod umožňující komplexní charakterizaci deponovaných tenkých vrstev. Kvantitativní hloubkový profil pro různé druhy povlaků a tenké oxidické vrstvy je stále častěji identifikován s využitím techniky optické emisní spektrometrie s buzením doutnavých výbojem (GDOES). Její výhody jsou zejména spatřovány ve srovnání s technikami AES, SIMS, XPS, RBS v jedinečné kombinaci vysoké odprašovací rychlosti, odprašovací hloubky, citlivosti metody, analýzy nevodivých vrstev a snadné kvantifikaci lehkých prvků (C, N, O, H). Předkládaný článek shrnuje současné aplikované metody techniky GDOES umožňující charakterizovat vlastnosti tenkých vrstev a povlaků s důrazem na možné využití výsledků ve výrobním průmyslu. Hloubkové koncentrační profily byly stanoveny u povlaků připravených technikou CVD (chemical vapour deposition) a PVD (physical vapour deposition), naválcované cladové vrstvy a tenké oxidické vrstvy vzniklé při válcování za tepla a nedokonalém procesu moření. (cs)
- Research and development in the sphere of preparation of thin oxide layers and coatings by advanced electrochemical, chemical or physical techniques has been focusing for improving of chemical and physical nature of coated surfaces in recent years in order to achieve the increasing of their lifetime and utility for the exist type of application. The suitable choice of analytical methods enabling the comprehensive characterization of deposited thin layers is important part of requirements for evaluation of surface layers and coatings in the dependence on the desired quality incl. physico-chemical and structural properties. Glow discharge optical emission spectrometry (GDOES) is suitable method for the determination of chemical composition of surface layers for various types of metallic materials. GDOES technique allows to perform profile element analysis e.g. for analysis of various types of coatings and layers. The quantitative depth profile for various kinds of coatings and thin oxide layer is still more often identified with the utilization of glow discharge optical emission spectrometry. Advantages of this method consist especially in the unique combination of high sputtering rate, sputtering depth, sensitivity of the method, analysis of non-conductive layers and easy quantification of light metals (C, N, O, H) as compared with Auger electron spectroscopy (AES), Secondary ion mass spectrometry (SIMS), X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), Rutherford backscattering spectrometry (RBS). Submitted paper summarises current applied methods of GDOES technique susceptible to characterize the properties of thin layers and coatings forcefully on the possibility of application in industrial use. Depth concentration profiles were determined in case of coatings prepared by techniques CVD (chemical vapour deposition) and PVD (physical vapour deposition), rolled clad layer and thin oxide layer originated in hot rolling and incomplete pickling process (en)
|
| Title
| - Stanovení koncentrace prvků v závislosti na analyzované hloubce s využitím techniky GDOES
- Stanovení koncentrace prvků v závislosti na analyzované hloubce s využitím techniky GDOES (cs)
- Determination of elemental concentration in dependence on analysed depth with utilization of GDOES technique (en)
|
| skos:prefLabel
| - Stanovení koncentrace prvků v závislosti na analyzované hloubce s využitím techniky GDOES
- Stanovení koncentrace prvků v závislosti na analyzované hloubce s využitím techniky GDOES (cs)
- Determination of elemental concentration in dependence on analysed depth with utilization of GDOES technique (en)
|
| skos:notation
| - RIV/25870807:_____/14:#0000360!RIV15-MSM-25870807
|
| http://linked.open...avai/riv/aktivita
| |
| http://linked.open...avai/riv/aktivity
| |
| http://linked.open...iv/cisloPeriodika
| |
| http://linked.open...vai/riv/dodaniDat
| |
| http://linked.open...aciTvurceVysledku
| |
| http://linked.open.../riv/druhVysledku
| |
| http://linked.open...iv/duvernostUdaju
| |
| http://linked.open...titaPredkladatele
| |
| http://linked.open...dnocenehoVysledku
| |
| http://linked.open...ai/riv/idVysledku
| - RIV/25870807:_____/14:#0000360
|
| http://linked.open...riv/jazykVysledku
| |
| http://linked.open.../riv/klicovaSlova
| - GDOES quantitative depth profile thin oxid+e layer CVD coating PVD coating clad layer (en)
|
| http://linked.open.../riv/klicoveSlovo
| |
| http://linked.open...odStatuVydavatele
| |
| http://linked.open...ontrolniKodProRIV
| |
| http://linked.open...i/riv/nazevZdroje
| |
| http://linked.open...in/vavai/riv/obor
| |
| http://linked.open...ichTvurcuVysledku
| |
| http://linked.open...cetTvurcuVysledku
| |
| http://linked.open...vavai/riv/projekt
| |
| http://linked.open...UplatneniVysledku
| |
| http://linked.open...v/svazekPeriodika
| |
| http://linked.open...iv/tvurceVysledku
| - Gabor, Roman
- Faltýnková, Lenka
|
| issn
| |
| number of pages
| |
![[RDF Data]](/fct/images/sw-rdf-blue.png)
![[cxml]](/fct/images/cxml_doc.png)
![[csv]](/fct/images/csv_doc.png)
![[text]](/fct/images/ntriples_doc.png)
![[turtle]](/fct/images/n3turtle_doc.png)
![[ld+json]](/fct/images/jsonld_doc.png)
![[rdf+json]](/fct/images/json_doc.png)
![[rdf+xml]](/fct/images/xml_doc.png)
![[atom+xml]](/fct/images/atom_doc.png)
![[html]](/fct/images/html_doc.png)