Attributes | Values |
---|
rdf:type
| |
Description
| - Prahové napětí tranzistorů MOSFET s krátkým kanálem se zmenšuje jestliže zvětšujeme napětí kolektoru a tento jev krátkého kanálu označujeme jako DIBL (Drain Induced Barrier Lowering). Příspěvek se zabývá TCAD (Technology Computer Aided Design) simulací tohoto jevu. Je popsán postup pro určení redukce prahového napětí a pro zvětšení podprahového proudu vyvolaných DIBL. Tento postup zahrnuje celkem 5 experímentů pro 5 vybraných hodnot předpětí kolektoru a jednotlivý experiment zahrnuje generaci struktury programem MDRAW, simulaci struktury programem DESSIS a extrakci elektrických charakteristik programem INSPECT. Všechny experimenty jsou prováděny v grafickém prostředí GENESISE.
- Prahové napětí tranzistorů MOSFET s krátkým kanálem se zmenšuje jestliže zvětšujeme napětí kolektoru a tento jev krátkého kanálu označujeme jako DIBL (Drain Induced Barrier Lowering). Příspěvek se zabývá TCAD (Technology Computer Aided Design) simulací tohoto jevu. Je popsán postup pro určení redukce prahového napětí a pro zvětšení podprahového proudu vyvolaných DIBL. Tento postup zahrnuje celkem 5 experímentů pro 5 vybraných hodnot předpětí kolektoru a jednotlivý experiment zahrnuje generaci struktury programem MDRAW, simulaci struktury programem DESSIS a extrakci elektrických charakteristik programem INSPECT. Všechny experimenty jsou prováděny v grafickém prostředí GENESISE. (cs)
- For short channel MOSFETs, the threshold voltage is reduced if the drain bias is increased and this short-channel effect (SCE) is known as drain-induced barrier lowering (DIBL). The contribution deals with TCAD simulation of DIBL. The method to extract the threshold voltage reduction and the subthreshold current increase due to DIBL is described. The experiment contains five different NMOSFET device simulations in order to illustrate drain-induced barrier lowering. The simulations are run under GENESISe. The tool flow starts with the device editor MDRAW followed by device simulator DESSIS and visualization and extraction tool INSPECT. (en)
|
Title
| - Simulace jevů krátkého kanálu
- Short-channel effects simulation (en)
- Simulace jevů krátkého kanálu (cs)
|
skos:prefLabel
| - Simulace jevů krátkého kanálu
- Short-channel effects simulation (en)
- Simulace jevů krátkého kanálu (cs)
|
skos:notation
| - RIV/00216305:26220/06:PU65047!RIV07-MSM-26220___
|
http://linked.open.../vavai/riv/strany
| |
http://linked.open...avai/riv/aktivita
| |
http://linked.open...avai/riv/aktivity
| |
http://linked.open...vai/riv/dodaniDat
| |
http://linked.open...aciTvurceVysledku
| |
http://linked.open.../riv/druhVysledku
| |
http://linked.open...iv/duvernostUdaju
| |
http://linked.open...titaPredkladatele
| |
http://linked.open...dnocenehoVysledku
| |
http://linked.open...ai/riv/idVysledku
| - RIV/00216305:26220/06:PU65047
|
http://linked.open...riv/jazykVysledku
| |
http://linked.open.../riv/klicovaSlova
| - Device simulation, Electrical simulation, Parameter extraction, Device modeling, Curve fitting, Device optimization. 2D, Threshold voltage, Drain-induced barrier lowering. (en)
|
http://linked.open.../riv/klicoveSlovo
| |
http://linked.open...ontrolniKodProRIV
| |
http://linked.open...v/mistoKonaniAkce
| |
http://linked.open...i/riv/mistoVydani
| |
http://linked.open...i/riv/nazevZdroje
| - Konference MIKROSYN. Nové trendy v mikroelektronických systémech a nanotechnologiích
|
http://linked.open...in/vavai/riv/obor
| |
http://linked.open...ichTvurcuVysledku
| |
http://linked.open...cetTvurcuVysledku
| |
http://linked.open...UplatneniVysledku
| |
http://linked.open...iv/tvurceVysledku
| |
http://linked.open...vavai/riv/typAkce
| |
http://linked.open.../riv/zahajeniAkce
| |
http://linked.open...n/vavai/riv/zamer
| |
number of pages
| |
http://purl.org/ne...btex#hasPublisher
| |
https://schema.org/isbn
| |
http://localhost/t...ganizacniJednotka
| |