| Attributes | Values |
|---|
| rdf:type
| |
| Description
| - A new optical apparatus for in situ monitoring of optical constants of growing (etched) thin films - substrate systems over the large surface area of the sample (ranging from 1 to 2 cm2) was designed, constructed and tested in our group. Namely, the two following devices have been designed: Firstly, InSitu-AreaSampler together with control software has been developed for analysis of an areal homogeneity of thin-film growth during its deposition (or etching). The method is based on the measurement of reflectivity of the sample at selected wavelengths of an incident light. Areal detection is assured (performed) by imaging of the surface of thin film by a CCD chip where each pixel acts as small detector in an independent way. Secondly, the InSitu-SpotSampler was developed for measurement the reflectivity of growing (etched) thin film at one spot on the sample surface but in quasi-continual range of wavelengths (UV-VIS). The results achieved show the usability of this instrument for the in situ measuremen (en)
- Zobrazovací reflektometrie vyvinutá v posledních letech ve skupině prof. T. Šikoly na ÚFI FSI VUT v Brně představuje nový vhodný nástroj k in situ charakterizaci optických vlastností tenkých vrstev rostoucích na podložce známých optických vlastností. Využívá kombinace CCD kamery a osvětlovače s monochromátorem k měření spektrální odrazivosti v UV-VIS kvazispojité oblasti (300-900 nm), která jsou plošně zaznamenána v každém bodě povrchu vzorku (o rozměrech cca 1,2 x 1,2 cm2) zobrazeného pomocí kulového zrcadla na čip CCD kamery v různých časech vzniku, případně leptání vrstvy. Z naměřených spekter jsou poté pomocí vlastního software určeny optické vlastnosti (index lomu n, koeficient absorbce k a tloušťka vrstvy d) podél celého povrchu vzorku. V rámci řešení této problematiky bylo vyvinuto několik původních zařízení - jak pro in situ, tak i ex situ stanovení optických parametrů tenkých vrstev. V článku je prezentován výv
- Zobrazovací reflektometrie vyvinutá v posledních letech ve skupině prof. T. Šikoly na ÚFI FSI VUT v Brně představuje nový vhodný nástroj k in situ charakterizaci optických vlastností tenkých vrstev rostoucích na podložce známých optických vlastností. Využívá kombinace CCD kamery a osvětlovače s monochromátorem k měření spektrální odrazivosti v UV-VIS kvazispojité oblasti (300-900 nm), která jsou plošně zaznamenána v každém bodě povrchu vzorku (o rozměrech cca 1,2 x 1,2 cm2) zobrazeného pomocí kulového zrcadla na čip CCD kamery v různých časech vzniku, případně leptání vrstvy. Z naměřených spekter jsou poté pomocí vlastního software určeny optické vlastnosti (index lomu n, koeficient absorbce k a tloušťka vrstvy d) podél celého povrchu vzorku. V rámci řešení této problematiky bylo vyvinuto několik původních zařízení - jak pro in situ, tak i ex situ stanovení optických parametrů tenkých vrstev. V článku je prezentován výv (cs)
|
| Title
| - Vývoj zařízení k in-situ stanovení rozložení tlouštěk vrstev pomocí UV-VIS zobrazovací reflektometrie
- Vývoj zařízení k in-situ stanovení rozložení tlouštěk vrstev pomocí UV-VIS zobrazovací reflektometrie (cs)
- Development of an optical apparatus for in situ monitoring of thicknesses by using of UV-VIS Imaging Reflectometry (en)
|
| skos:prefLabel
| - Vývoj zařízení k in-situ stanovení rozložení tlouštěk vrstev pomocí UV-VIS zobrazovací reflektometrie
- Vývoj zařízení k in-situ stanovení rozložení tlouštěk vrstev pomocí UV-VIS zobrazovací reflektometrie (cs)
- Development of an optical apparatus for in situ monitoring of thicknesses by using of UV-VIS Imaging Reflectometry (en)
|
| skos:notation
| - RIV/00216305:26210/06:PU62980!RIV07-MSM-26210___
|
| http://linked.open.../vavai/riv/strany
| |
| http://linked.open...avai/riv/aktivita
| |
| http://linked.open...avai/riv/aktivity
| |
| http://linked.open...iv/cisloPeriodika
| |
| http://linked.open...vai/riv/dodaniDat
| |
| http://linked.open...aciTvurceVysledku
| |
| http://linked.open.../riv/druhVysledku
| |
| http://linked.open...iv/duvernostUdaju
| |
| http://linked.open...titaPredkladatele
| |
| http://linked.open...dnocenehoVysledku
| |
| http://linked.open...ai/riv/idVysledku
| - RIV/00216305:26210/06:PU62980
|
| http://linked.open...riv/jazykVysledku
| |
| http://linked.open.../riv/klicovaSlova
| - Imaging reflectometry, thickness, Si, SiO2 (en)
|
| http://linked.open.../riv/klicoveSlovo
| |
| http://linked.open...odStatuVydavatele
| |
| http://linked.open...ontrolniKodProRIV
| |
| http://linked.open...i/riv/nazevZdroje
| |
| http://linked.open...in/vavai/riv/obor
| |
| http://linked.open...ichTvurcuVysledku
| |
| http://linked.open...cetTvurcuVysledku
| |
| http://linked.open...UplatneniVysledku
| |
| http://linked.open...v/svazekPeriodika
| |
| http://linked.open...iv/tvurceVysledku
| - Chmelík, Radim
- Spousta, Jiří
- Šikola, Tomáš
- Urbánek, Michal
- Běhounek, Tomáš
- Plšek, Radek
- Navrátil, Karel
|
| http://linked.open...n/vavai/riv/zamer
| |
| issn
| |
| number of pages
| |
| http://localhost/t...ganizacniJednotka
| |
![[RDF Data]](/fct/images/sw-rdf-blue.png)
![[cxml]](/fct/images/cxml_doc.png)
![[csv]](/fct/images/csv_doc.png)
![[text]](/fct/images/ntriples_doc.png)
![[turtle]](/fct/images/n3turtle_doc.png)
![[ld+json]](/fct/images/jsonld_doc.png)
![[rdf+json]](/fct/images/json_doc.png)
![[rdf+xml]](/fct/images/xml_doc.png)
![[atom+xml]](/fct/images/atom_doc.png)
![[html]](/fct/images/html_doc.png)