About: Methods of surface and thin film analysis of chemical composition, photoelectron diffraction

Facets (new session)
Description
Metadata
Settings
- owl:sameAs
- Inference Rule:

About: Methods of surface and thin film analysis of chemical composition, photoelectron diffraction Goto Sponge NotDistinct Permalink

An Entity of Type : http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/Vysledek, within Data Space : linked.opendata.cz associated with source document(s)

Attributes	Values
rdf:type	skos:Concept http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/Vysledek
Description	Analýza chemického složení patří k základním úkolům materiálové analýzy v mnoha oblastech špičkových technologií. Chemické složení materiálů může být studováno celou řadou metod, z nichž k nejvýznamnějším a nejpoužívanějším patří elektronové spektroskopie a to zejména rentgenová fotoelektronová spektroskopie (XPS - X-ray Photoelectron Spectroscopy) a Augerova elektronová spektroskopie (AES - Auger Electron Spectroscopy). Obě metody jsou v dnešní době běžnou součástí výzkumných i aplikovaných laboratoří případně slouží jako diagnostické metody ve výrobních procesech. Analýza chemického složení patří k základním úkolům materiálové analýzy v mnoha oblastech špičkových technologií. Chemické složení materiálů může být studováno celou řadou metod, z nichž k nejvýznamnějším a nejpoužívanějším patří elektronové spektroskopie a to zejména rentgenová fotoelektronová spektroskopie (XPS - X-ray Photoelectron Spectroscopy) a Augerova elektronová spektroskopie (AES - Auger Electron Spectroscopy). Obě metody jsou v dnešní době běžnou součástí výzkumných i aplikovaných laboratoří případně slouží jako diagnostické metody ve výrobních procesech. (cs) The goal of this article is to provide basic in formation on the physical principles and applications of the methods mentioned below. Chemical composition belongs to the basic characterization of materials used in many technological applications. X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) and Auger electron spectroscopy (AES) are widely used for the investigation of chemical composition as well as of chemical state of solid surfaces. X-ray photoelectron diffraction (XPD) is a technique providing information on the detail crystallographic structure of single-crystal surfaces and epitaxial thin films and bonding geometry of ordered adsorbates. Secondary ion mass spectroscopy (SIMS) is more sensitive for measurement of low concentration species comparing to the electron spectroscopy techniques and, in addition, it permits elemental and compositional depth profiling. (en)
Title	Methods of surface and thin film analysis of chemical composition, photoelectron diffraction (en) METODY POVRCHOVÉ A TENKOVRSTVOVÉ ANALÝZY PRVKOVÉHO SLOŽENÍ (XPS, AES, SIMS), DIFRAKCE FOTOELEKTRONŮ METODY POVRCHOVÉ A TENKOVRSTVOVÉ ANALÝZY PRVKOVÉHO SLOŽENÍ (XPS, AES, SIMS), DIFRAKCE FOTOELEKTRONŮ (cs)
skos:prefLabel	Methods of surface and thin film analysis of chemical composition, photoelectron diffraction (en) METODY POVRCHOVÉ A TENKOVRSTVOVÉ ANALÝZY PRVKOVÉHO SLOŽENÍ (XPS, AES, SIMS), DIFRAKCE FOTOELEKTRONŮ METODY POVRCHOVÉ A TENKOVRSTVOVÉ ANALÝZY PRVKOVÉHO SLOŽENÍ (XPS, AES, SIMS), DIFRAKCE FOTOELEKTRONŮ (cs)
skos:notation	RIV/00216208:11320/11:10108877!RIV12-MSM-11320___
http://linked.open...avai/riv/aktivita	Z
http://linked.open...avai/riv/aktivity	Z(MSM0021620834)
http://linked.open...iv/cisloPeriodika	4
http://linked.open...vai/riv/dodaniDat	2012
http://linked.open...aciTvurceVysledku	Mašek, Karel
http://linked.open.../riv/druhVysledku	J - Článek v odborném periodiku
http://linked.open...iv/duvernostUdaju	S - Úplné a pravdivé údaje nepodléhající ochraně podle zvláštních právních předpisů
http://linked.open...titaPredkladatele	Univerzita Karlova v Praze / Matematicko-fyzikální fakulta
http://linked.open...dnocenehoVysledku	212104
http://linked.open...ai/riv/idVysledku	RIV/00216208:11320/11:10108877
http://linked.open...riv/jazykVysledku	cze - čeština
http://linked.open.../riv/klicovaSlova	Photoelectron diffraction; SIMS; AES; XPS (en)
http://linked.open.../riv/klicoveSlovo	AES XPS Photoelectron diffraction SIMS
http://linked.open...odStatuVydavatele	CZ - Česká republika
http://linked.open...ontrolniKodProRIV	[B42FAEBDFA8F]
http://linked.open...i/riv/nazevZdroje	Materials Structure in Chemistry, Biology Physics and Technology (Bulletin of the Czech and Slovak Crystallographic Association.)
http://linked.open...in/vavai/riv/obor	BM
http://linked.open...ichTvurcuVysledku	1 (xsd:int)
http://linked.open...cetTvurcuVysledku	2 (xsd:int)
http://linked.open...UplatneniVysledku	2011
http://linked.open...v/svazekPeriodika	18
http://linked.open...iv/tvurceVysledku	Mašek, Karel Bábor, P.
http://linked.open...n/vavai/riv/zamer	Condensed Matter Physics – New Materials and Technologies
issn	1211-5894
number of pages	7 (xsd:int)
http://localhost/t...ganizacniJednotka	11320

Faceted Search & Find service v1.16.118 as of Jun 21 2024

Alternative Linked Data Documents: ODE Content Formats:

RDF

ODATA

Microdata

About

OpenLink Virtuoso version 07.20.3240 as of Jun 21 2024, on Linux (x86_64-pc-linux-gnu), Single-Server Edition (126 GB total memory, 49 GB memory in use)
Data on this page belongs to its respective rights holders.
Virtuoso Faceted Browser Copyright © 2009-2024 OpenLink Software