Attributes | Values |
---|
rdf:type
| |
Description
| - Byl realizován lineární měřící systém depozičního plazmového procesu pro velkoplošné procesy. Ten umožnil měřit prostorovou distribuci tepelného toku, iontového toku a depoziční rychlosti
- Byl realizován lineární měřící systém depozičního plazmového procesu pro velkoplošné procesy. Ten umožnil měřit prostorovou distribuci tepelného toku, iontového toku a depoziční rychlosti (cs)
- Linear diagnostic system of the plasma deposition process for large scale depositions was developed. This system is capable to measure spatial distribution of heating flux, ion flux and deposition rate. (en)
|
Title
| - Linear diagnostic system of plasma deposition for large scale processes (en)
- Lineární diagnostický systém plazmové depozice pro velkoplošné procesy
- Lineární diagnostický systém plazmové depozice pro velkoplošné procesy (cs)
|
skos:prefLabel
| - Linear diagnostic system of plasma deposition for large scale processes (en)
- Lineární diagnostický systém plazmové depozice pro velkoplošné procesy
- Lineární diagnostický systém plazmové depozice pro velkoplošné procesy (cs)
|
skos:notation
| - RIV/68378271:_____/12:00390204!RIV13-TA0-68378271
|
http://linked.open...avai/riv/aktivita
| |
http://linked.open...avai/riv/aktivity
| - P(TA01011740), Z(AV0Z10100522)
|
http://linked.open...vai/riv/dodaniDat
| |
http://linked.open...aciTvurceVysledku
| |
http://linked.open.../riv/druhVysledku
| |
http://linked.open...iv/duvernostUdaju
| |
http://linked.open...onomickeParametry
| - V rámci projektu TAČR byl vytvořen měřící diagnostický systém pro velkoplošné depoziční techniky. Tento systém bude součástí realizovaného vícetryskového depozičního MW systému.
|
http://linked.open...titaPredkladatele
| |
http://linked.open...dnocenehoVysledku
| |
http://linked.open...ai/riv/idVysledku
| - RIV/68378271:_____/12:00390204
|
http://linked.open...terniIdentifikace
| |
http://linked.open...riv/jazykVysledku
| |
http://linked.open...vai/riv/kategorie
| |
http://linked.open.../riv/klicovaSlova
| - heating flux; plasma; ion flux; deposition; thin films; deposition rate (en)
|
http://linked.open.../riv/klicoveSlovo
| |
http://linked.open...ontrolniKodProRIV
| |
http://linked.open.../licencniPoplatek
| |
http://linked.open...in/vavai/riv/obor
| |
http://linked.open...ichTvurcuVysledku
| |
http://linked.open...cetTvurcuVysledku
| |
http://linked.open...vavai/riv/projekt
| |
http://linked.open...UplatneniVysledku
| |
http://linked.open...echnickeParametry
| - Typ termočlánku kalorimetrické sondy-K. Základní frekvence QCM senzoru 5000,00 kHz. Frekvenční rozsah pulzního napětí pro měření iontového toku 50-400 kHz. Frekvence RF zdroje harmonického napětí pro měření iontového toku 1 MHz Funkční vzorek byl vytvořen v rámci řešení projektu TAČR TA01011740. Hlavním řešitelem projektu je firma SVCS (která má smlouvu s TAČR c. 20110108) a FZU je spoluřešitelem. Mezi FZU a SVCS je podepsána Smlouva o spolupráci, upravující podmínky spolupráce při přípravě a řešení Projektu a využití výsledků výzkumu, která je nutnou součástí řešení projektu. Odpovědným řešitelem za FZÚ je Dr. Kromka. Cislo dokumentace (i pro TACR) i inventarni cislo je totozne s internim kodem: FS3/FZÚ/2012
|
http://linked.open...iv/tvurceVysledku
| - Kment, Štěpán
- Olejníček, Jiří
- Šmíd, Jiří
- Hubička, Zdeněk
- Kšírová, Petra
- Čada, Martin
|
http://linked.open...avai/riv/vlastnik
| |
http://linked.open...itiJinymSubjektem
| |
http://linked.open...n/vavai/riv/zamer
| |