About: Optimization of thin film systems used in the optics industry     Goto   Sponge   NotDistinct   Permalink

An Entity of Type : http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/Projekt, within Data Space : linked.opendata.cz associated with source document(s)

AttributesValues
rdf:type
rdfs:seeAlso
Description
  • Development of new methods of design of thin film systems produced in the optics industry including film defects and original methods of characterization of these systems that will allow improving their quality. Technological changes of deposition of multilayer systems such as mirrors with high reflectance, anti-reflective coatings, beam splitters and polarizers, minimizing their imperfections namely in the ultraviolet part of the spectrum and enabling new progressive applications. (en)
  • Vyvinutí nových metod návrhu systémů tenkých vrstev vyráběných v optickém průmyslu zahrnujících defekty vrstev a originálních metod charakterizace těchto systémů umožňujících zdokonalení kontroly kvality. Technologické změny depozice vrstevnatých systémů vyráběných v optickém průmyslu, jako jsou zrcadla s vysokou odrazivostí, antireflexní pokrytí, děliče světla a polarizátory, minimalizující jejich nedokonalosti především v ultrafialové oblasti spektra a umožňující nové progresivní aplikace.
Title
  • Optimization of thin film systems used in the optics industry (en)
  • Optimalizace vrstevnatých systémů používaných v optickém průmyslu
skos:notation
  • TA02010784
http://linked.open...avai/cep/aktivita
http://linked.open...kovaStatniPodpora
http://linked.open...ep/celkoveNaklady
http://linked.open...datumDodatniDoRIV
http://linked.open...i/cep/druhSouteze
http://linked.open...ep/duvernostUdaju
http://linked.open.../cep/fazeProjektu
http://linked.open...ai/cep/hlavniObor
http://linked.open...vai/cep/kategorie
http://linked.open.../cep/klicovaSlova
  • characterization of single SiO2, HfO2, Al2O3, TiO2, MgF2 layers- including thin film defects in characterization- design of thin film systems- vacuum evaporation from thermal and electron sources- cathodic sputtering (en)
http://linked.open...ep/partnetrHlavni
http://linked.open...inujicichPrijemcu
http://linked.open...cep/pocetPrijemcu
http://linked.open...ocetSpoluPrijemcu
http://linked.open.../pocetVysledkuRIV
http://linked.open...enychVysledkuVRIV
http://linked.open...lneniVMinulemRoce
http://linked.open.../prideleniPodpory
http://linked.open...iciPoslednihoRoku
http://linked.open...atUdajeProjZameru
http://linked.open.../vavai/cep/soutez
http://linked.open...usZobrazovaneFaze
http://linked.open...ai/cep/typPojektu
http://linked.open...ep/ukonceniReseni
http://linked.open.../cep/vedlejsiObor
http://linked.open...ep/zahajeniReseni
http://linked.open...tniCyklusProjektu
http://linked.open.../cep/klicoveSlovo
  • TiO2
  • Al2O3
  • HfO2
  • characterization of single SiO2
is http://linked.open...vavai/cep/projekt of
Faceted Search & Find service v1.16.118 as of Jun 21 2024


Alternative Linked Data Documents: ODE     Content Formats:   [cxml] [csv]     RDF   [text] [turtle] [ld+json] [rdf+json] [rdf+xml]     ODATA   [atom+xml] [odata+json]     Microdata   [microdata+json] [html]    About   
This material is Open Knowledge   W3C Semantic Web Technology [RDF Data] Valid XHTML + RDFa
OpenLink Virtuoso version 07.20.3240 as of Jun 21 2024, on Linux (x86_64-pc-linux-gnu), Single-Server Edition (126 GB total memory, 41 GB memory in use)
Data on this page belongs to its respective rights holders.
Virtuoso Faceted Browser Copyright © 2009-2024 OpenLink Software