Attributes | Values |
---|
rdf:type
| |
rdfs:seeAlso
| |
Description
| - The low pressure plasma enhanced chemical vapour deposition (PECVD) of thin films using organosilicon monomers will be studied. Especially, we will concentrate on the deposition of a new kind of hard diamond-like carbon films with small silicon oxide con, tent deposited from the mixture of methane and organosilicon monomer, particularly hexamethyldisiloxane (HMDSO), optionally with farther addition of hydrogen or argon. We will study the improvement of mechanical properties of these films and compare itw, ith the film optical properties, film structure and composition. We will determine the correlation between optical properties and film structure and composition in the case of organosilicon plasma polymers deposited from the mixture of HMDSO and oxygen., Further we will carry out experiments with atmospheric pressure PECVD using HMDSO in order to find some optimum conditions for such a new kind of deposition technique. In accordance to these deposition experiments we will study the rate constant of (en)
- Bude studována depozice tenkých vrstev z plynné fáze v nízkotlakém plazmatu (technika PECVD) pomocí organosilikonových monomerů. Obzvlášrě se soustředíme na depozici nového druhu tvrdých, diamantu podobných, uhlíkových vrstev s malým obsahem kysličníku k, řemíku ze směsi metanu a organosilikonového monomeru, zvláště, hexametyldisiloxanu (HMDSO), případně s dalším přidáním vodíku nebo argonu. Budeme studovat zlepšení mechanických vlastností těchto vrstev a budeme je srovnávat s optickými vlastnostmi, struk, turou a složením vrstvy. Budeme určovat korelaci mezi optickými vlastnostmi a strukturou vrstvy a jejím složením v případě depozice oraganosilikových monomerů ze směsi HMDSO a kyslíku. Dále provedeme experimenty s PECVD za atmosférického tlaku s použitím, HMDSO, abychom našli nějaké optomální podmínky pro takový nový druh depoziční techniky. V závislosti na těchto depozičních experimentech budeme studovat rychlostní konstanty HMDSO.
|
Title
| - Study of reactivity of organosilicon monomers in plasma environment (en)
- Studium reaktivity organosilikonových monomerů v depozičním plazmatu
|
skos:notation
| |
http://linked.open...avai/cep/aktivita
| |
http://linked.open...kovaStatniPodpora
| |
http://linked.open...ep/celkoveNaklady
| |
http://linked.open...datumDodatniDoRIV
| |
http://linked.open...i/cep/druhSouteze
| |
http://linked.open...ep/duvernostUdaju
| |
http://linked.open.../cep/fazeProjektu
| |
http://linked.open...ai/cep/hlavniObor
| |
http://linked.open...hodnoceniProjektu
| |
http://linked.open...vai/cep/kategorie
| |
http://linked.open.../cep/klicovaSlova
| - plasma enhnaced chemical vapour deposition (PECVD); organosilicons; hexamethyldisiloxane (en)
|
http://linked.open...ep/partnetrHlavni
| |
http://linked.open...inujicichPrijemcu
| |
http://linked.open...cep/pocetPrijemcu
| |
http://linked.open...ocetSpoluPrijemcu
| |
http://linked.open.../pocetVysledkuRIV
| |
http://linked.open...enychVysledkuVRIV
| |
http://linked.open...okUkonceniPodpory
| |
http://linked.open...okZahajeniPodpory
| |
http://linked.open...iciPoslednihoRoku
| |
http://linked.open...atUdajeProjZameru
| |
http://linked.open.../vavai/cep/soutez
| |
http://linked.open...usZobrazovaneFaze
| |
http://linked.open...ai/cep/typPojektu
| |
http://linked.open.../cep/vedlejsiObor
| |
http://linked.open...jektu+dodavatelem
| - Studied reactivity of monomers (en)
- Studována reaktivita monomerů (cs)
|
http://linked.open...tniCyklusProjektu
| |
http://linked.open.../cep/klicoveSlovo
| - organosilicons
- plasma enhnaced chemical vapour deposition (PECVD)
|
is http://linked.open...vavai/cep/projekt
of | |