A solution of fundamental problems arising in research into new plasma systems for preparation of thin films with the aim to form new materials of unique properties and to develop new techniques for high-rate deposition of the films. The project is solvein a collaboration with the Institute of Vacuum Industrial Technology at the Sung Kyun Kwan University in Suwon (Korea). The main interest is focused on the following topics: (i) Pulse techniques of magnetron sputtering, (ii) Carbon- and silicon-based thin films, (iii) Protective layers produced in microwave plasmas. (en)
Předmětem navrženého projektu je výzkum nových systémů pro přípravu tenkých vrstev v plazmatu s cílem vytvořit nové materiály unikátních vlastností a vyvinout novou technologii pro velmi rychlé nanášení vrstev jako možnou náhradu galvanických procesů s negativním vlivem na životní prostředí. Projekt bude zaměřen na následující problematiku: 1. Pulzní magnetronové napracování vrstev. 2. Tenké vrstvy na bázi uhlíku a křemíku. 3. Ochranné povlaky vytvářené v mikrovlnném plazmatu.
Rozvoj poznání v oblasti pulzních magnetronových systémů, reaktivní magnetronové depozice vrstev na bázi uhlíku a křemíku a plazmové nitridace oceli, hliníku a hliníkových slitin (cs)