Attributes | Values |
---|
rdf:type
| |
rdfs:seeAlso
| |
Description
| - Proposed project will be devoted to applied research and development of the new environmentally safe plasmatic technologies of thin films at the low temperatures of the substrate T< 80 deg C. New systems with plasma jets working at atmospheric pressures will be developed. Although research and development deals with these problems, this technology was not satisfactory mastered up to now. Main effort will be concentrated on the optically transparent thin oxide films deposited on plastic substrates. Particularly, it will be deposited doped ZnO, In2O3:Sn thin films and others similar which are suitable and required in industry applications. The next kind of deposited materials will be anti corrosive barrier coatings of aluminum alloys by Al2O3 and CeO2 films. 'In situ' measurement of plasma parameters and thin films properties will be correlated in order to optimize the deposition process. (en)
- Navrhovaný projekt bude zaměřen na cílený výzkum a vývoj nových ekologických plazmatických technologií depozice tenkých vrstev při udržení nízkých teplot substrátu T < 80 st C. Vyvíjeny budou různé systémy s proudícími plazmovými kanály pracujících za atmosférického tlaku. Přestože výzkum a vývoj je v poslední době intenzivně zaměřen v tomto směru, problém těchto technologií nebyl dosud uspokojivě zvládnut. Pozornost bude zaměřena na tenké vrstvy opticky transparentních vodivých oxidů deponované na plastové substráty. Konkrétně půjde o dopované ZnO, In2O3:Sn vrstvy a podobně, které jsou vhodné a žádané pro aplikace v průmyslu. Další cílovým druhem deponovaných materiálů budou antikorozní bariérové povlaky hliníkových slitin vrstvami Al2O3 a CeO2. Měření vlastností plazmatu přímo při depozici a parametrů vrstev bude využito k optimalizaci depozičního procesu.
|
Title
| - New low temperature plasmatic technologies of thin films deposition at atmospheric pressure (en)
- Nové nízkoteplotní plazmatické technologie depozice tenkých vrstev za atmosférického tlaku
|
skos:notation
| |
http://linked.open...avai/cep/aktivita
| |
http://linked.open...kovaStatniPodpora
| |
http://linked.open...ep/celkoveNaklady
| |
http://linked.open...datumDodatniDoRIV
| |
http://linked.open...i/cep/druhSouteze
| |
http://linked.open...ep/duvernostUdaju
| |
http://linked.open.../cep/fazeProjektu
| |
http://linked.open...ai/cep/hlavniObor
| |
http://linked.open...hodnoceniProjektu
| |
http://linked.open...vai/cep/kategorie
| |
http://linked.open.../cep/klicovaSlova
| - atmospheric plasma;thin films deposition;plasma jet;barrier coatings;ellipsometry;emission spectroscopy (en)
|
http://linked.open...ep/partnetrHlavni
| |
http://linked.open...inujicichPrijemcu
| |
http://linked.open...cep/pocetPrijemcu
| |
http://linked.open...ocetSpoluPrijemcu
| |
http://linked.open.../pocetVysledkuRIV
| |
http://linked.open...enychVysledkuVRIV
| |
http://linked.open...okUkonceniPodpory
| |
http://linked.open...okZahajeniPodpory
| |
http://linked.open...iciPoslednihoRoku
| |
http://linked.open...atUdajeProjZameru
| |
http://linked.open.../vavai/cep/soutez
| |
http://linked.open...usZobrazovaneFaze
| |
http://linked.open...ai/cep/typPojektu
| |
http://linked.open.../cep/vedlejsiObor
| |
http://linked.open...jektu+dodavatelem
| - V rámci projektu byla vyvinuta plazmatická technologie depozice tenkých vrstev za nízké teploty a atmosférikého tlaku. Ta byla aplikována na depozici SnO, ITO a ZnO na polymerové substráty a depozici vrstev CeO2, Al2O3 a TiO2 na kovy. (cs)
- Plasmatic technology of low temperature thin film deposition at atmospheric pressure was developed in this project. This technology was applied for deposition of SnO, ITO, ZnO films on polymer substrate and deposition of CeO2, Al2O3, TiO2 on metals. (en)
|
http://linked.open...tniCyklusProjektu
| |
http://linked.open.../cep/klicoveSlovo
| - ellipsometry
- plasma jet
- atmospheric plasma
- barrier coatings
- thin films deposition
|
is http://linked.open...vavai/cep/projekt
of | |