Attributes | Values |
---|
rdf:type
| |
rdfs:seeAlso
| |
Description
| - AIII-nitrides have been shown to be of both fundamental and practical interest. Applications in electronics cover light-emitting diodes, lasers, transistors, photodetectors, planar waveguides as well as hig-temperature electronic devices. Metal OrganicVapour Phase Epitaxy (MOVPE) has became the leading technology for preparation of epitaxial layers and structures ot these materials during the last decade. However some serious problems exist in the MOVPE. Lack of the substrate materials lattice-matchedto AIII-nitrides, different thermal stabilities of AIII-nitrides, different incorporation efficiencies in ternary a quaternary solid solutions growth as well as solid phase immiscibility in In-containing materials are the principal ones. One of the goalof this project is the preparation of ternary and quaternary solid solutions of AIII-nitrides by the MOVPE. Composition of these solutions will be investigated experimentaly and correlated with the calculated ones on the basis of the local thermodynamic (en)
- Nitridy hliníku, gallia a india a jejich pevné roztoky, (Al,Ga,In)N, jsou v současné době materiály celosvětového významu, aplikované především v optoelektronice a vysokoteplotní elektronice. Tento strategický význam je však stále provázen některýmidosud nevyřešenými problémy v oblasti přípravy vysoce kvalitních epitaxních vrstev technologií MOVPE. Vážným problémem je např. zabudovávání india v roztocích AlInN a GaInN ve vyšších koncentracích při vyšších depozičních teplotách, reálná možnost fázovéodmíšení v ternárních a kvaternárních systémech a některé další. Nezanedbatelné nejsou ani některé rozporuplné literární údaje o optimálních technologických podmínkách přípravy kvalitních vrstev, např. vliv tlaku v technologii MOVPE. Navrhovaný projektje proto částečně zaměřen na přípravu ternárních, popřípadě kvaternárních pevných roztoků a jejich diagnostiku se zpětnou vazbou na technologické podmínky. Vrstvy budou připravovány technologií MOVPE na laboratorním technologickém zařízení, které bylo
|
Title
| - Chemical aspects of thin layer deposition of the AIII-nitrides in relation to electronic applications (en)
- Chemické aspekty přípravy tenkých vrstev nitridů 3. podskupiny ve vztahu k aplikacím v elektronice
|
skos:notation
| |
http://linked.open...avai/cep/aktivita
| |
http://linked.open...kovaStatniPodpora
| |
http://linked.open...ep/celkoveNaklady
| |
http://linked.open...datumDodatniDoRIV
| |
http://linked.open...i/cep/druhSouteze
| |
http://linked.open...ep/duvernostUdaju
| |
http://linked.open.../cep/fazeProjektu
| |
http://linked.open...ai/cep/hlavniObor
| |
http://linked.open...hodnoceniProjektu
| |
http://linked.open...vai/cep/kategorie
| |
http://linked.open.../cep/klicovaSlova
| |
http://linked.open...ep/partnetrHlavni
| |
http://linked.open...inujicichPrijemcu
| |
http://linked.open...cep/pocetPrijemcu
| |
http://linked.open...ocetSpoluPrijemcu
| |
http://linked.open.../pocetVysledkuRIV
| |
http://linked.open...enychVysledkuVRIV
| |
http://linked.open...okUkonceniPodpory
| |
http://linked.open...okZahajeniPodpory
| |
http://linked.open...iciPoslednihoRoku
| |
http://linked.open...atUdajeProjZameru
| |
http://linked.open.../vavai/cep/soutez
| |
http://linked.open...usZobrazovaneFaze
| |
http://linked.open...ai/cep/typPojektu
| |
http://linked.open.../cep/vedlejsiObor
| |
http://linked.open...jektu+dodavatelem
| - V průběhu řešení byly byly změřeny tepelné kapacity GaN (320-570 K) a InN (305-390 K) a relativní entalpie GaN (670-1270 K) a InN (427-774 K). Byly vypočteny hodnoty standardních molárních entropií GaN a InN při teplotě 298,15 K. Na základě teoretických (cs)
- The heat capacities and relative enthalpies were measured, respectively, in the temperature intervals (320-570 K) and (670-1270 K) for GaN and (305-390 K) and (427-774 K) for InN. The standard molar entropies at 298 K were evaluated form the analysis o (en)
|
http://linked.open...tniCyklusProjektu
| |
is http://linked.open...vavai/cep/projekt
of | |