About: *Technology Modification for Deposition of Passivation and Antireflective Coatings by the Method of PECVD for the Condition of Vertical Reactor

Facets (new session)
Description
Metadata
Settings
- owl:sameAs
- Inference Rule:

About: *Technology Modification for Deposition of Passivation and Antireflective Coatings by the Method of PECVD for the Condition of Vertical Reactor Goto Sponge NotDistinct Permalink

An Entity of Type : http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/Projekt, within Data Space : linked.opendata.cz associated with source document(s)

Attributes	Values
rdf:type	http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/Projekt
rdfs:seeAlso	http://www.isvav.cz/projectDetail.do?rowId=FR-TI1/619
Description	Processes for plasma deposition of thin dielectric layers have wide aplication possibilities in the field of semiconductor industry and within the production of crystalline silicon solar cells. Layers deposited by the PECVD process reach high quality of electronic properties and high quality of visual appearance. Vertical deposition furnace has several advantages - smaller footprint, more simple manipulation with substrates a better process parameters. Project is also oriented to the reseach and development in the field of PECVD processes exploitation within technologies for production of crystalline silicon solar cells. PECVD processes will be applied for development of solar cells with efficience over 18% and of solar cells for special application. (en) Procesy plazmatické depozice tenkých dielektrických vrstvev mají široké aplikační možnosti v oblasti polovodičového průmyslu a ve výrobě krystalických křemíkových solárních článků. Vrstvy deponované procesem PECVD dosahují vysoké kvality elektronických vlastností a vysokou úroveň vizuálního vzhledu. Vertikální depoziční pec se vyznačuje několika přednostmi - zmenšení potřebné plochy, jednodušší manipulace s procesními substráty a lepšími procesními parametry. Projekt je rovněž zaměřen na výzkum a vývoj v oblasti využití PECVD procesů v technologii výroby struktur krystalických křemíkových solárních článků. S použitím PECVD procesů budou vyvinuty solární články s účinností nad 18% a solární články pro speciální aplikace.
Title	Technology Modification for Deposition of Passivation and Antireflective Coatings by the Method of PECVD for the Condition of Vertical Reactor (en) Modifikace technologií depozice pasivačních a antireflexních vrstev metodou PECVD pro podmínky vertikalního reaktoru
skos:notation	FR-TI1/619
http://linked.open...avai/cep/aktivita	TIP
http://linked.open...kovaStatniPodpora	http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/projekt/FR-TI1%2F619/celkovaStatniPodpora
http://linked.open...ep/celkoveNaklady	http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/projekt/FR-TI1%2F619/celkoveNaklady
http://linked.open...datumDodatniDoRIV	2014-07-17 (xsd:date)
http://linked.open...i/cep/druhSouteze	VS - Veřejná soutěž ve výzkumu a vývoji
http://linked.open...ep/duvernostUdaju	C - Předmět podléhá obchodnímu tajemství (§17 až 20 Obchodního zákoníku), ale některé údaje jsou upraveny tak, aby byly zveřejnitelné
http://linked.open.../cep/fazeProjektu	100576101
http://linked.open...ai/cep/hlavniObor	JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
http://linked.open...hodnoceniProjektu	V - Vynikající výsledky (s mezinárodním významem apod.). Zároveň byly splněny cíle a předpokládané výsledky uvedené ve smlouvě / rozhodnutí o poskytnutí podpory.
http://linked.open...vai/cep/kategorie	AP - Aplikovaný výzkum
http://linked.open.../cep/klicovaSlova	Deposition of thin layers; PECVD; vertical furnace; semiconductor industry; crystalline silicon solr cells; plasma processes (en)
http://linked.open...ep/partnetrHlavni	SVCS Process Innovation s.r.o.
http://linked.open...inujicichPrijemcu	0 (xsd:int)
http://linked.open...cep/pocetPrijemcu	1 (xsd:int)
http://linked.open...ocetSpoluPrijemcu	1 (xsd:int)
http://linked.open.../pocetVysledkuRIV	7 (xsd:int)
http://linked.open...enychVysledkuVRIV	7 (xsd:int)
http://linked.open...lneniVMinulemRoce	2013-04-23 (xsd:date)
http://linked.open.../prideleniPodpory	http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/prideleniPodpory/FR-TI1%2F619
http://linked.open...iciPoslednihoRoku	2013
http://linked.open...atUdajeProjZameru	2014
http://linked.open.../vavai/cep/soutez	SMPO2009/01
http://linked.open...usZobrazovaneFaze	DUU
http://linked.open...ai/cep/typPojektu	P - Projekt výzkumu a vývoje financovaný ze státního rozpočtu
http://linked.open...ep/ukonceniReseni	2013-06-30 (xsd:date)
http://linked.open.../cep/vedlejsiObor	BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
http://linked.open...ep/zahajeniReseni	2009-07-01 (xsd:date)
http://linked.open...jektu+dodavatelem	Development of technologies applying thin layers of SINx, SIOx Ny a A10x on silicon substrates using plasma discharge at low pressure and at relatively low temperatures up to 500 C for applications in the semiconductor and photovoltaics industry. (en) Vývoj technologie nanášené tentkých vrstev SINx, SIOx Ny a A10x na křemíkové substráty pomocí plasmatického výboje za nízkého tlaku a za relativně nízkých teplot do 500 C pro aplikace v polovodičovém a fotovoltaickém průmyslu. (cs)
http://linked.open...tniCyklusProjektu	ZBBBKU
http://linked.open.../cep/klicoveSlovo	PECVD crystalline silicon solr cells semiconductor industry vertical furnace Deposition of thin layers
is http://linked.open...vavai/cep/projekt of	http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/ucast/FR-TI1%2F619/2009/ico%3A27711170 http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/ucast/FR-TI1%2F619/2009/ico%3A49610040 http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/ucast/FR-TI1%2F619/2010/ico%3A27711170 http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/ucast/FR-TI1%2F619/2010/ico%3A49610040 http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/ucast/FR-TI1%2F619/2011/ico%3A27711170 http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/ucast/FR-TI1%2F619/2011/ico%3A49610040 http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/ucast/FR-TI1%2F619/2012/ico%3A27711170 http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/ucast/FR-TI1%2F619/2012/ico%3A49610040 http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/ucast/FR-TI1%2F619/2013/ico%3A27711170 http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/ucast/FR-TI1%2F619/2013/ico%3A49610040 http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/ucast/FR-TI1%2F619/2014/ico%3A27711170 http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/ucast/FR-TI1%2F619/2014/ico%3A49610040

Faceted Search & Find service v1.16.118 as of Jun 21 2024

Alternative Linked Data Documents: ODE Content Formats:

RDF

ODATA

Microdata

About

OpenLink Virtuoso version 07.20.3240 as of Jun 21 2024, on Linux (x86_64-pc-linux-gnu), Single-Server Edition (126 GB total memory, 58 GB memory in use)
Data on this page belongs to its respective rights holders.
Virtuoso Faceted Browser Copyright © 2009-2024 OpenLink Software