About: New plasma systems for preparation of thin films     Goto   Sponge   NotDistinct   Permalink

An Entity of Type : http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/Projekt, within Data Space : linked.opendata.cz associated with source document(s)

AttributesValues
rdf:type
rdfs:seeAlso
Description
  • A solution of fundamental problems arising in research into new plasma systems for preparation of thin films with the aim to form new materials of unique properties and to develop new techniques for high-rate deposition of the films. The project is solvein a collaboration with the Institute of Vacuum Industrial Technology at the Sung Kyun Kwan University in Suwon (Korea). The main interest is focused on the following topics: (i) Pulse techniques of magnetron sputtering, (ii) Carbon- and silicon-based thin films, (iii) Protective layers produced in microwave plasmas. (en)
  • Předmětem navrženého projektu je výzkum nových systémů pro přípravu tenkých vrstev v plazmatu s cílem vytvořit nové materiály unikátních vlastností a vyvinout novou technologii pro velmi rychlé nanášení vrstev jako možnou náhradu galvanických procesů s negativním vlivem na životní prostředí. Projekt bude zaměřen na následující problematiku: 1. Pulzní magnetronové napracování vrstev. 2. Tenké vrstvy na bázi uhlíku a křemíku. 3. Ochranné povlaky vytvářené v mikrovlnném plazmatu.
Title
  • New plasma systems for preparation of thin films (en)
  • Nové systémy pro přípravu tenkých vrstev v plazmatu
skos:notation
  • ME 203
http://linked.open...avai/cep/aktivita
http://linked.open...kovaStatniPodpora
http://linked.open...ep/celkoveNaklady
http://linked.open...datumDodatniDoRIV
http://linked.open...i/cep/druhSouteze
http://linked.open...ep/duvernostUdaju
http://linked.open.../cep/fazeProjektu
http://linked.open...ai/cep/hlavniObor
http://linked.open...hodnoceniProjektu
http://linked.open.../cep/klicovaSlova
  • Plasma systems; thin films; protective layers; new materials; high-rate deposition; pulse techniques; magnetron sputtering; microwave plasmas; carbon-based films; silicon-based films. (en)
http://linked.open...ep/partnetrHlavni
http://linked.open...inujicichPrijemcu
http://linked.open...cep/pocetPrijemcu
http://linked.open...ocetSpoluPrijemcu
http://linked.open.../pocetVysledkuRIV
http://linked.open...enychVysledkuVRIV
http://linked.open...iciPoslednihoRoku
http://linked.open...atUdajeProjZameru
http://linked.open...usZobrazovaneFaze
http://linked.open...ai/cep/typPojektu
http://linked.open.../cep/vedlejsiObor
http://linked.open...jektu+dodavatelem
  • Rozvoj poznání v oblasti pulzních magnetronových systémů, reaktivní magnetronové depozice vrstev na bázi uhlíku a křemíku a plazmové nitridace oceli, hliníku a hliníkových slitin (cs)
http://linked.open...tniCyklusProjektu
http://linked.open.../cep/klicoveSlovo
  • magnetron sputtering
  • new materials
  • thin films
  • carbon-based films
  • high-rate deposition
  • microwave plasmas
  • protective layers
  • pulse techniques
  • Plasma systems
is http://linked.open...vavai/cep/projekt of
Faceted Search & Find service v1.16.118 as of Jun 21 2024


Alternative Linked Data Documents: ODE     Content Formats:   [cxml] [csv]     RDF   [text] [turtle] [ld+json] [rdf+json] [rdf+xml]     ODATA   [atom+xml] [odata+json]     Microdata   [microdata+json] [html]    About   
This material is Open Knowledge   W3C Semantic Web Technology [RDF Data] Valid XHTML + RDFa
OpenLink Virtuoso version 07.20.3240 as of Jun 21 2024, on Linux (x86_64-pc-linux-gnu), Single-Server Edition (126 GB total memory, 77 GB memory in use)
Data on this page belongs to its respective rights holders.
Virtuoso Faceted Browser Copyright © 2009-2024 OpenLink Software