Cílem projektu je vypracování uceleného korelovaného systému optimálních depozičních parametrů tvorby moderních multivrstvých optických systémů dielektrických vrstev metodou vakuové depozice, včetně technologie a charakterizace substrátu (podložek). Systém bude tvořit teoretický návrh, optimální technologické postupy a soubor klasických a zcela nových metod charakterizace vrstev a souvisejících techologických postupů. Dále budou obdobně studovány a realizovány optické vrstvy pro nestandardní užití, nové hybridní technologie s vysoce ionizovaným pulzním plazmatem (HIPP) pro depozice optických vrstev s novými materiály. Cílem je ucelený aplikovaný výzkum v tomto oboru, včetně experimentální realizace nových typů jednoduchých i multivrstvých systémů pro určené aplikace s opticko-fyzikálními parametry, které jsou srovnatelné se světovou úrovní v oboru. (cs)
The project objectives consist in survey of correlated system of vacuum deposition parameters for production of modern multiple dielectric layers including their technology and substrate description. The system is suggested as a theoretical design and a collection of classical and entirely new layer description methods together with related optimised technological procedures. In the similar way there will be studied and realised optical layers for non-standard applications, new hybrid technologies based on high-ionised pulse plasma (HIPP) for deposition of optical layers made from new materials. The project aim is an integrated applied research and experimental realisation of new types of simple and multilayer systems for determined purposes requiring physical parameters comparable with the world level of the field of research. (en)