Attributes | Values |
---|
rdf:type
| |
Description
| - Hlavním cílem projektu je příprava fotoaktivních tenkých vrstev polovodičů a jejich dvojvrstvých systémů. Produkované vrstvy musí splňovat přísná kritéria a požadavky na stabilitu, čistotu, krystalovou strukturu, optické vlastnosti, elektronické a povrchové vlastnosti, jakožto klíčové parametry pro cílové fotonické aplikace. K tomuto účelu budou studovány moderní pulzní plazmatické technologie magnetronového naprašování, pulzní naprašování systémem plazmatických trysek s dutými katodami a systém MW surfatronu. Tyto systémy budou kombinovány společně s chemickými metodami sol-gel. Primárně budou připravovány vrstvy α-Fe2O3 (hematit), které budou dále chemicky převáděny na FeS2 (pyrit). Dalšími typy vrstev, které budou plnit funkci vzájemně interagujícího partnera v dvouvrstvých heterogenních systémech budou ZnS, SnS2, WO3, TiO2. Vrstvy budou detailně charakterizovány řadou pokročilých metod a následně fotoelektrochemicky testovány na jejich optoelektronickou aktivitu. (cs)
- The main target of the project is preparation of photoactive semiconductor thin films based on FeS2 and their multi-layer structures. These materials will be investigated within cooperation of the the group in the Institute of Physics ASCR, v.v.i. (FZU) and the group at University of Nebraka (UNL). These developed systems should have a high level of stability and high quality of optical and electronic properties. These parameters are very important for the use of these structures for photonic applications. The group at FZU will investigate the possibility to prepare these semiconductor films by plasmatic methods including high power impulse magnetron sputtering, pulsed hollow cathode plasma jet system and PECVD surfatron plasma jet. The USA group will sulphurise some of these films prepared by plasmatic methods and measure optical and optoelectronic properties of these final structures. (en)
|
Title
| - Výzkum tenkých vrstev na bázi FeS2 pro fotonické aplikace (cs)
- A Study of thin films systems based on Iron Pyrite (FeS2) for Photonic Applications. (en)
|
http://linked.open...vai/cislo-smlouvy
| |
http://linked.open...lsi-vedlejsi-obor
| |
http://linked.open...avai/druh-souteze
| |
http://linked.open...domain/vavai/faze
| |
http://linked.open...vavai/hlavni-obor
| |
http://linked.open...vai/vedlejsi-obor
| |
http://linked.open...vavai/id-aktivity
| |
http://linked.open.../vavai/id-souteze
| |
http://linked.open...n/vavai/kategorie
| |
http://linked.open...vai/klicova-slova
| - Pyrite; thin films; magnetron sputtering; sol gel; plasma jet; semiconductors; plasma (en)
|
http://linked.open...avai/konec-reseni
| |
http://linked.open...nujicich-prijemcu
| |
http://linked.open...avai/poskytovatel
| |
http://linked.open...avai/start-reseni
| |
http://linked.open...ai/statni-podpora
| |
http://linked.open...vavai/typProjektu
| |
http://linked.open...ai/uznane-naklady
| |
http://linked.open...ai/pocet-prijemcu
| |
http://linked.open...cet-spoluprijemcu
| |
http://linked.open...ai/pocet-vysledku
| |
http://linked.open...ku-zverejnovanych
| |
is http://linked.open...ain/vavai/projekt
of | |