Attributes | Values |
---|
rdf:type
| |
Description
| - The essence of this project is the implementation of novel low temperature pulsed plasma deposition systems involving magnetron sputtering, hollow cathode method working, surfatron for photoactive hematite (alpha-Fe2O3) thin films production. The prepared films will be characterized by means of many modern methods (e.g. GI-XRD, XPS, UV-VIS, AFM etc.). The photoresponse of the hematite films will be assessed with help of photoelectrochemical experiments. The films’ photofunctionality will be enhanced by targeted modification via particularly their doping, isocrystalline bilayer systems (hematite/Al2O3), and alternatively also by introducing the catalyst nanoparticles isles (IrO2, RuO2) onto their surface. Further, the thoroughly characterized hematite films will be transformed to pyrite (FeS2) by chemical sulfurization. Since pyrite is another potentially very useful photoactive material, suggested to be an inherent part of new generation photovoltaic cells, the correlation between the properties of hematite and pyrite will also be studied (e.g. Hall effect measurements). (en)
- Podstatou navrhovaného projektu je nízkoteplotní příprava krystalických fotoaktivních tenkých vrstev hematitu (alfa-Fe2O3) pomocí moderních plazmatických depozičních systémů (magnetronové naprašování, plazmatický systém s dutými katodami, surfatron) pracujících v různých režimech (MF, DC a RF pulzní módy, HiPIMS). Fyzikální vlastnosti připravených vrstev budou studovány pomocí souboru charakterizačních metod (GI-XRD, XPS, UV-VIS, AFM, atd.). Funkční vlastnosti připravených vrstev budou posuzovány na základě výsledků fotoelektrochemických experimentů. Vrstvy budou z důvodu zvýšení fotoaktivity, cíleně modifikovány dopováním, vytvářením funkčních isokrystalických dvojvrstvev např. hematit/Al2O3 a nanášením nanoklastrů katalyzátorů na jejich povrch (IrO2, RuO2). Podrobně charakterizované vrstvy budou transformovány chemickou sulfurizací na pyrit (FeS2). Vzhledem k tomu, že pyrit je také velmi perspektivní fotoaktivní materiál, především s uplatněním v oblasti fotovoltaiky, bude studována souvislost mezi vlastnostmi hematitu a pyritu (fyzikální vlastnosti, fotoaktivita a Hallův jev). (cs)
|
Title
| - Plazmatické depoziční systémy pro přípravu fotoaktivních tenkých vrstev hematitu (en)
- Plazmatické depoziční systémy pro přípravu fotoaktivních tenkých vrstev hematitu (cs)
|
http://linked.open...vai/cislo-smlouvy
| |
http://linked.open...avai/druh-souteze
| |
http://linked.open...domain/vavai/faze
| |
http://linked.open...vavai/hlavni-obor
| |
http://linked.open...vai/vedlejsi-obor
| |
http://linked.open...vavai/id-aktivity
| |
http://linked.open.../vavai/id-souteze
| |
http://linked.open...n/vavai/kategorie
| |
http://linked.open...vai/klicova-slova
| - Hematite; magnetron; sputtering; HiPIMS; hollow; cathode; plasma; jet; surfatron; crystalline; thin; films; photoelectrochemistry; plasma; doping; bilayer; structures; pyrite. (en)
|
http://linked.open...avai/konec-reseni
| |
http://linked.open...nujicich-prijemcu
| |
http://linked.open...avai/poskytovatel
| |
http://linked.open...avai/start-reseni
| |
http://linked.open...ai/statni-podpora
| |
http://linked.open...vavai/typProjektu
| |
http://linked.open...ai/uznane-naklady
| |
http://linked.open...ai/pocet-prijemcu
| |
http://linked.open...cet-spoluprijemcu
| |
http://linked.open...ai/pocet-vysledku
| |
http://linked.open...ku-zverejnovanych
| |
is http://linked.open...ain/vavai/projekt
of | |