Attributes | Values |
---|
rdf:type
| |
Description
| - Projekt si klade za cíl vyvinout technologii přípravy tenkých nanostrukturních a gradientních vrstev pomocí pulsní laserové depozice. Podstatou je přesně definovaný strukturní nebo koncentrační profil přes celou tloušťku vrstvy. Pro vytvoření takovévrstvy je zapotřebí, aby všechny parametry depozice byly spolehlivě řízeny a definovatelně měněny během depozičního procesu. To je proveditelné jen za pomocí počítačem řízeného depozičního systému, vzhledem k tomu, že růst nanometrových komponentstruktury má trvání třeba jen zlomků sekundy a počet těchto komponent může být několik desítek až stovek. V první fázi předpokládáme modifikování již vybudovaného depozičního systému pro pulsní laserovou depozici. V návaznosti na nosný projekt budevyužito hybridního depozičního systému. Hlavní změny budou spočívat v plném napojení depozičního procesu na počítač, umožňujíce spouštění výstřelů laseru do terče, automatické výměny terčů různých materiálů, řízení průtoků plynů v depoziční komoře, tlaku (cs)
- The proposed project aims to develop technology for deposition of thin nanostructured and gradient layers, which possess exactly defined structural or compositional profile through the total coating thickness. These coatings will be prepared using hybridtechnique combining the Pulsed Laser Deposition with other deposition methods. Tens or hundreds of monolayers are needed to complete the coating and deposition of one monolayer can take even fraction of seconds only. Therefore it is necessary to build asystem which is controlled by a computer. This system would control the particular laser shots, fast change of the targets, and optionally also other deposition parameters like substrate temperature, gas flow or pressure in the deposition chamber.thickness of a monolayers is an important parameter of the coating. For this reason, a resonance measurement of the layer growth will be installed in the deposition chamber. Quality of the interface between particular nanolayers is an important (en)
|
Title
| - Development and adaptation of pulsed laser deposition technique for gradient and nanostructured layer growth (en)
- Vývoj a adaptace techniky pulsní laserové depozice pro růst gradientních a nanostrukturních vrstev (cs)
|
http://linked.open...lsi-vedlejsi-obor
| |
http://linked.open...avai/druh-souteze
| |
http://linked.open...domain/vavai/faze
| |
http://linked.open...vavai/hlavni-obor
| |
http://linked.open...vai/vedlejsi-obor
| |
http://linked.open...vavai/id-aktivity
| |
http://linked.open.../vavai/id-souteze
| |
http://linked.open...n/vavai/kategorie
| |
http://linked.open...vai/klicova-slova
| |
http://linked.open...nujicich-prijemcu
| |
http://linked.open...avai/poskytovatel
| |
http://linked.open...ai/statni-podpora
| |
http://linked.open...vavai/typProjektu
| |
http://linked.open...ai/uznane-naklady
| |
http://linked.open...ai/pocet-prijemcu
| |
http://linked.open...cet-spoluprijemcu
| |
http://linked.open...ai/pocet-vysledku
| |
http://linked.open...ku-zverejnovanych
| |
is http://linked.open...ain/vavai/projekt
of | |