About: Processes in the unipolar RF hollow cathode discharge induced in the plasma reactor     Goto   Sponge   NotDistinct   Permalink

An Entity of Type : http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/Projekt, within Data Space : linked.opendata.cz associated with source document(s)

AttributesValues
rdf:type
Description
  • About ten years ago a new plasma-chemical reactor with supersonic plasma channel (RPJ) has been developed in the Institute of Physics AS CR. In this reactor the plasma channel is reated by means of the RF unipolar hollow cathode discharge which is superimpose on the primary RF plasma. Experimentally has been found that by means of the RPJ reactor the thin films with defined stoichiometry have been achieved and the thin films can be deposit on the internal walls of cavities, holes and complex shapeof hollow substrates. Recently the two hollow cathode RPJ reactor has been developed by means of which is able to deposit the composite thin films and multilayer structures. Furthermore the RPJ reactor can be used for the novel application for example for surface treatment of polymers and materials which is possible utilize in the medicine, ecological programs and biophysics. Up to now the RPJ reactor has been utilize mostly on the base of the empirical knowledge. (en)
  • Na konci osmdesátých let byl ve Fyzikálním ústavu AV ČR vyvinut plazma-chemický reaktor pracující na novém principu generace plazmového kanálu pomocí indukovaného RF výboje v duté katodě, který se superponuje na RF výboj a reaktoru. Experimenty ukázaly, že pomocí tohoto reaktoru je možné nanášet tenké vrstvy s definovanou stechiometrií a nanášet tenké vrstvy do dutin a na substráty komplikovaných tvarů. V poslední době byl vyvinut dvoukatodový systém, pomocí kterého je možno nanášet kompositní vrstvy a vícevrstevnaté struktury. Uvedený reaktor tak může nahradit některé dosavadní technologie, které mají negativní vliv na životní prostředí, a dále umožnit zavedení nových technologií využitelných např. v medicíně, ekologii a v biofyzice. Ve většině případů se však dosud reaktory s dutou katodou využívaly na základě převážně empirických zkušeností bez komplexního studia procesů v nich probíhajících. Cílem předloženého projektu je proto provést komplexní studium procesů ve zmíněném reaktoru. (cs)
Title
  • Procesy v jednopolovém RF výboji s dutou katodou indukovaném v plazmatickém reaktoru (cs)
  • Processes in the unipolar RF hollow cathode discharge induced in the plasma reactor (en)
http://linked.open...avai/druh-souteze
http://linked.open...domain/vavai/faze
http://linked.open...vavai/hlavni-obor
http://linked.open...vai/vedlejsi-obor
http://linked.open...vavai/id-aktivity
http://linked.open.../vavai/id-souteze
http://linked.open...n/vavai/kategorie
http://linked.open...nujicich-prijemcu
http://linked.open...avai/poskytovatel
http://linked.open...ai/statni-podpora
http://linked.open...vavai/typProjektu
http://linked.open...ai/uznane-naklady
http://linked.open...ai/pocet-prijemcu
http://linked.open...cet-spoluprijemcu
http://linked.open...ai/pocet-vysledku
http://linked.open...ku-zverejnovanych
is http://linked.open...ain/vavai/projekt of
Faceted Search & Find service v1.16.118 as of Jun 21 2024


Alternative Linked Data Documents: ODE     Content Formats:   [cxml] [csv]     RDF   [text] [turtle] [ld+json] [rdf+json] [rdf+xml]     ODATA   [atom+xml] [odata+json]     Microdata   [microdata+json] [html]    About   
This material is Open Knowledge   W3C Semantic Web Technology [RDF Data] Valid XHTML + RDFa
OpenLink Virtuoso version 07.20.3240 as of Jun 21 2024, on Linux (x86_64-pc-linux-gnu), Single-Server Edition (126 GB total memory, 58 GB memory in use)
Data on this page belongs to its respective rights holders.
Virtuoso Faceted Browser Copyright © 2009-2024 OpenLink Software