Attributes | Values |
---|
rdf:type
| |
Description
| - Pulsní laserová depozice (PLD) je velmi dobře zavedená metoda pro přípravu tenkých vrstev která však dosud nebyla realizována s laserem pracujícím v extrémně ultrafialovém (XUV) spektrálním oboru realizována. Interakce XUV záření s hmotou vykazuje řadu rysů, které ji výrazně odlišují od působení záření v ultrafialové, viditelné a infračervené oblasti. Fotony XUV záření produkované repetičním kapilárním laserem o energii 26,4 eV jsou v materiálu pohlcovány téměř výhradně fotoefektem a šířka zakázaného pásu materiálu nemá na absorpci XUV záření v pevné látce zásadní vliv. Jedná se o zcela unikátní využití XUV laseru pro PLD přípravu tenkých vrstev materiálů se zanedbatelnou lineární absorpci ve UV-Vis-NIR spektrálních oblastech, jakými jsou např. iontové krystaly LiF, CaF2, MgF2. Součástí projektu je komplexní studium XUV laserového plazmatu metodami optické a hmotnostní spektroskopie a matematické modelování plazmatu. Připravené vrstvy budou podrobeny komplexní analýze struktury, optických vlastností a fluorescence. (cs)
- Pulsed laser deposition (PLD) is well introduced technique for preparation of thin films. However, it has not been realized using a laser operating in the extremely ultraviolet (XUV) spectral range. Interaction of XUV light with matter exhibits several features, which makes it much different in respect to the effect of radiation incidence in ultraviolet, visible and infrared range. Photons of XUV radiation generated by repetition capillary laser of energy 26.4 eV are absorbed in the matter mainly via photoeffect. The bandgap width does not play any important role in the absorption of XUV radiation in the solid state matter. This is a novel unique utilization of XUV for PLD preparation of thin film of materials possessing negligible linear absorption in the UV-VIS-NIR spectral ranges, such as ionic crystals LiF, CaF2, MgF2. The part of this project is a comprehensive study of XUV laser plasma by means of optical emission and mass spectroscopy and mathematical modeling of plasma behavior. Structural, optical and fluorescence properties of the fabricated films will be analyzed. (en)
|
Title
| - Vytváření speciálních tenkých vrstev UV-Vis-NIR transparentních dielektric pomocí ablace repetičním kapilárním XUV laserem (cs)
- Fabrication of thin films of UV-Vis-NIR transparent dielectrics by repetitive, capillary-discharge XUV laser ablation (en)
|
http://linked.open...vai/cislo-smlouvy
| |
http://linked.open...lsi-vedlejsi-obor
| |
http://linked.open...avai/druh-souteze
| |
http://linked.open...domain/vavai/faze
| |
http://linked.open...vavai/hlavni-obor
| |
http://linked.open...vai/vedlejsi-obor
| |
http://linked.open...i/hlavni-ucastnik
| |
http://linked.open...vavai/id-aktivity
| |
http://linked.open.../vavai/id-souteze
| |
http://linked.open...n/vavai/kategorie
| |
http://linked.open...vai/klicova-slova
| - XUV laser ablation, ionic cystal, thin films (en)
|
http://linked.open...avai/konec-reseni
| |
http://linked.open...nujicich-prijemcu
| |
http://linked.open...avai/poskytovatel
| |
http://linked.open...avai/start-reseni
| |
http://linked.open...ai/statni-podpora
| |
http://linked.open...vavai/typProjektu
| |
http://linked.open...ai/uznane-naklady
| |
http://linked.open...ai/pocet-prijemcu
| |
http://linked.open...cet-spoluprijemcu
| |
http://linked.open...ai/pocet-vysledku
| |
http://linked.open...ku-zverejnovanych
| |
is http://linked.open...ain/vavai/projekt
of | |