Attributes | Values |
---|
rdf:type
| |
Description
| - The aim of the project will be investigation of the low pressure multi- plasma jet sputtering system used for the temperature deposition of thin film perovskites structures as PZT (Pb1-xZrxTiO3), Sr2 MoFeO6, KNbO3 and KTaO3. The main target will be to obtain those films on polymer and plastic substrates. Properties of deposited films as ferroelectric behavior, structure, chemical composition, density of defects, optical properties etc. will be studied and correlated with the configuration of the multi-plasma jet system and properties of reactive plasma. Reactive sputtering of the nozzles working as hollow cathodes will be used for the deposition process. Radio-frequency excitation of high density hollow cathode jets will be used. Furthermore direct current plasma excitation in the case of conductive nozzles will be studied as well. In situ time resolved emission spectroscopy and fast RF compensated Langmuir probe system will be used for study of plasma parameters. (en)
- Cílem navrhovaného projektu bude studium nízkotlakého plazmatického vícetryskového naprašovacího systému, který bude použit pro nízkoteplotní depozici tenkých vrstev perovskitů (PZT(Pb1-xZrxTiO3),SrMoFeO6,KNbO3 a KTaO3. Hlavní cíl bude depozice těchto typů vrstev a polymerní a plastové substráty. Na deponovaných vrstvách budou zkoumány feroelektrické vlastnosti, struktura, chemické složení, hustota defektů, optické vlastnosti atd. Tyto parametry budou korelovány s různými konfiguracemi vícetryskového systému a parametry reaktivního plazmatu. Reaktivní rozprašování trysek pracujících jako duté katody bude využito pro depoziční proces. Výboj v dutých katodách bude generován pomocí vysokofrekvenčního vykonového zdroje. V případě vodivých dutých katod bude studováno navíc stejnosměrné buzení výboje v duté katodě. Pro diagnostiku plazmatu, která bude prováděna přímo při depozičním procesu bude použita časově rozlišená emisní spektroskopie a rychlá RF kompenzovaná Langmuirova sonda. (cs)
|
Title
| - Investigation of Multi-Plasma-Jet System as a Source for Low Temperature Deposition of Perovskites Thin Films (en)
- Studium vícetryskového systému s plazmovými kanály a dutými katodami pro nízkoteplotní depozici perovskitových tenkých vrstev (cs)
|
http://linked.open...lsi-vedlejsi-obor
| |
http://linked.open...avai/druh-souteze
| |
http://linked.open...domain/vavai/faze
| |
http://linked.open...vavai/hlavni-obor
| |
http://linked.open...vai/vedlejsi-obor
| |
http://linked.open...vavai/id-aktivity
| |
http://linked.open.../vavai/id-souteze
| |
http://linked.open...n/vavai/kategorie
| |
http://linked.open...vai/klicova-slova
| - hollow cathode; plasma jet; ferroelectric thin films; reactive sputtering; Langmuir probe; emission spectroscopy (en)
|
http://linked.open...nujicich-prijemcu
| |
http://linked.open...avai/poskytovatel
| |
http://linked.open...ai/statni-podpora
| |
http://linked.open...vavai/typProjektu
| |
http://linked.open...ai/uznane-naklady
| |
http://linked.open...ai/pocet-prijemcu
| |
http://linked.open...cet-spoluprijemcu
| |
http://linked.open...ai/pocet-vysledku
| |
http://linked.open...ku-zverejnovanych
| |
is http://linked.open...ain/vavai/projekt
of | |