Description
| - The development of novel and modified thin film deposition techniques, study of their possibilities and characterization of discharge plasma is very important for creation of new types of thin films, multilayers, complex and doped layers, graded coatings, waveguiding films, nanostructures, etc. The improvement of present deposition systems, and construction of new hybrid deposition techniques, is necessary. Our attention will be focused on development of systems combining pulsed laser deposition witah concentrated RF and hollow cathode discharges, and magnetron sputtering. The RF biasing and laser modification of the film surface sill be also applied to inhance density and crystallization of the growing films. Formation processes in discharge plasma will be studied by diode-laser spectroscopy, OES, Langmuir probes and CCD camera. Films will be characterized by WDX, XRD, XPS, STM, SEM, Raman spectroscopy and spectroscopic ellipsometry. Microhardness and adhesion will be also tested. (en)
- Vývoj nových a modifikovaných depozičních technik, studium jejich možností a charakterizace plazmy jsou velmi důležité pro tvorbu nových typů tenkých vrstev a multivrstev, složitých a dopovaných vrstev, gradovaných pokrytí a vrstev s proměnným materiálovým profilem, vlnovodových vrstev, nanostruktur, atd. Tyto úkoly vyžadují zdokonalení současné depoziční techniky a vývoj nových hybridních depozičních systémů. Naše pozornost bude soustředěna na vývoj systémů kombinujících pulsní laserovou depozici s RF výboje, výbojem v duté katodě a s magnetronovým naprašováním. Zlepšené krystalizace a zhutnění vrstev bude dosaženo pomocí RF polarizace a laserové modifikace povrchu podložky. Procesy ve výbojovém plazmatu budou studovány pomocí diodové laserové spektroskopie, OES, Langmuirovských sond a CCD kamery. Vrstvy budou charakterizovány pomocí WDX, XRD, XPS, STM, SEM, Ramanovské spektroskopie a spektroskopické elipsometrie. Měřeny budou také mikrotvrdost a adheze vrstev. (cs)
|