Attributes | Values |
---|
rdf:type
| |
Description
| - V rámci řešení projektu TAČR jsme vyvinuli hybridní plazmatický systém se dvěma magnetrony a systémem duté katody, který je určen pro pulzní HIPIMS+MF reaktivní naprašování optických tenkých vrstev pro laboratorní a testovací účely.
- V rámci řešení projektu TAČR jsme vyvinuli hybridní plazmatický systém se dvěma magnetrony a systémem duté katody, který je určen pro pulzní HIPIMS+MF reaktivní naprašování optických tenkých vrstev pro laboratorní a testovací účely. (cs)
- Hybrid plasmatic system was developed in frame of grant TACR. The system contains two magnetrons and the hollow cathode system for HIPIMS+MF reactive sputtering of optical thin films. The system is suitable for research purposes. (en)
|
Title
| - Hybrid plasmatic pulse system HIPIMS+MF for reactive sputtering of optical thin films for laboratory and research purposes (en)
- Hybridní plazmatický pulzní HIPIMS+MF systém pro reaktivní naprašování optických tenkých vrstev pro laboratorní a testovací účely
- Hybridní plazmatický pulzní HIPIMS+MF systém pro reaktivní naprašování optických tenkých vrstev pro laboratorní a testovací účely (cs)
|
skos:prefLabel
| - Hybrid plasmatic pulse system HIPIMS+MF for reactive sputtering of optical thin films for laboratory and research purposes (en)
- Hybridní plazmatický pulzní HIPIMS+MF systém pro reaktivní naprašování optických tenkých vrstev pro laboratorní a testovací účely
- Hybridní plazmatický pulzní HIPIMS+MF systém pro reaktivní naprašování optických tenkých vrstev pro laboratorní a testovací účely (cs)
|
skos:notation
| - RIV/68378271:_____/11:00371285!RIV12-AV0-68378271
|
http://linked.open...avai/riv/aktivita
| |
http://linked.open...avai/riv/aktivity
| - P(TA01010517), Z(AV0Z10100522)
|
http://linked.open...vai/riv/dodaniDat
| |
http://linked.open...aciTvurceVysledku
| |
http://linked.open.../riv/druhVysledku
| |
http://linked.open...iv/duvernostUdaju
| |
http://linked.open...onomickeParametry
| - Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
|
http://linked.open...titaPredkladatele
| |
http://linked.open...dnocenehoVysledku
| |
http://linked.open...ai/riv/idVysledku
| - RIV/68378271:_____/11:00371285
|
http://linked.open...terniIdentifikace
| |
http://linked.open...riv/jazykVysledku
| |
http://linked.open...vai/riv/kategorie
| |
http://linked.open.../riv/klicovaSlova
| - sputtering; optical thin films; plasma; deposition; magnetron; hollow cathode (en)
|
http://linked.open.../riv/klicoveSlovo
| |
http://linked.open...ontrolniKodProRIV
| |
http://linked.open.../licencniPoplatek
| |
http://linked.open...okalizaceVysledku
| - Sekce optika, Oddělení nízkoteplotního plazmatu, FZÚ AV ČR, v.v
|
http://linked.open...in/vavai/riv/obor
| |
http://linked.open...ichTvurcuVysledku
| |
http://linked.open...cetTvurcuVysledku
| |
http://linked.open...vavai/riv/projekt
| |
http://linked.open...UplatneniVysledku
| |
http://linked.open...echnickeParametry
| - Magnetronové dělo M1, M2- rozměr terče: 50 mm. Maximální výstupní napětí HIPIMS zdroje: 1000 V Maximální proud v pulzu HIPIMS zdroje: 200 A Maximální střední proud magnetronem: 1A
|
http://linked.open...iv/tvurceVysledku
| - Dejneka, Alexandr
- Jastrabík, Lubomír
- Kment, Štěpán
- Šmíd, Jiří
- Hubička, Zdeněk
- Čada, Martin
- Straňák, Vítězslav
|
http://linked.open...avai/riv/vlastnik
| |
http://linked.open...itiJinymSubjektem
| |
http://linked.open...n/vavai/riv/zamer
| |