Attributes | Values |
---|
rdf:type
| |
Description
| - Ověřená technologie suché a vlhké oxidace 5-ti a 6-ti palcových Si desek pro dosažení homogenity požadované tloušťky vrstvy SiO2 po ploše jednotlivých desek v celé zpracovávané dávce zahrnuje také ověření použití designu dvouvrstvé ARC pasivační vrstvy s tloušťkou 25 až 30 nm v procesu výroby solárních článků s vysokou účinností.
- Ověřená technologie suché a vlhké oxidace 5-ti a 6-ti palcových Si desek pro dosažení homogenity požadované tloušťky vrstvy SiO2 po ploše jednotlivých desek v celé zpracovávané dávce zahrnuje také ověření použití designu dvouvrstvé ARC pasivační vrstvy s tloušťkou 25 až 30 nm v procesu výroby solárních článků s vysokou účinností. (cs)
- Verified technology of dry and wet oxidation of 5 and 6 inched Si wafers for achieving uniformity of required thickness of SiO2 layer at wafers surfarce in whole dose comprises a verification of using a design of double layerd antireflexive pasivation layer with thickness from 25 to 30 nm in process of manufacturing solar cells of high efficiency. (en)
|
Title
| - Verified technology of functionallity of reactor prototype for hightemperature wet and dry oxidation at silicon solar cells structures. (en)
- Ověřená technologie funkčnosti prototypu zařízení pro vysokoteplotní suchou a mokrou oxidaci na strukturách křemíkových solárních článků
- Ověřená technologie funkčnosti prototypu zařízení pro vysokoteplotní suchou a mokrou oxidaci na strukturách křemíkových solárních článků (cs)
|
skos:prefLabel
| - Verified technology of functionallity of reactor prototype for hightemperature wet and dry oxidation at silicon solar cells structures. (en)
- Ověřená technologie funkčnosti prototypu zařízení pro vysokoteplotní suchou a mokrou oxidaci na strukturách křemíkových solárních článků
- Ověřená technologie funkčnosti prototypu zařízení pro vysokoteplotní suchou a mokrou oxidaci na strukturách křemíkových solárních článků (cs)
|
skos:notation
| - RIV/27711170:_____/12:#0000004!RIV13-TA0-27711170
|
http://linked.open...avai/riv/aktivita
| |
http://linked.open...avai/riv/aktivity
| |
http://linked.open...vai/riv/dodaniDat
| |
http://linked.open...aciTvurceVysledku
| |
http://linked.open.../riv/druhVysledku
| |
http://linked.open...iv/duvernostUdaju
| |
http://linked.open...onomickeParametry
| - V případě implementace ověřené technolopie pro vysokoteplotní suchou a mokrou oxidaci na strukturách křemíkových solárních článků do vysokoteplotních pecí SVFur společně s metodikami pro přípravu substrátů a vytváření těchto vrstev se předpokládá 7% nárůst prodeje v segmentu oxidačních reaktorů společností SVCS Process Innovation s.r.o.
|
http://linked.open...titaPredkladatele
| |
http://linked.open...dnocenehoVysledku
| |
http://linked.open...ai/riv/idVysledku
| - RIV/27711170:_____/12:#0000004
|
http://linked.open...terniIdentifikace
| |
http://linked.open...riv/jazykVysledku
| |
http://linked.open...vai/riv/kategorie
| |
http://linked.open.../riv/klicovaSlova
| - high temperature silicon oxide layer formation (en)
|
http://linked.open.../riv/klicoveSlovo
| |
http://linked.open...ontrolniKodProRIV
| |
http://linked.open.../licencniPoplatek
| |
http://linked.open...in/vavai/riv/obor
| |
http://linked.open...ichTvurcuVysledku
| |
http://linked.open...cetTvurcuVysledku
| |
http://linked.open...vavai/riv/projekt
| |
http://linked.open...UplatneniVysledku
| |
http://linked.open...echnickeParametry
| - Ověření možnosti jednotného designu pecí pro suchou a vlhkou oxidaci Si desek. Ověření kvality (pasivačních vlastností pro n-typové i p-typové povrchy) a rychlosti růstu oxidových vrstev v závislosti na teplotě, úrovni povrchové koncentrace dopantů a ředění koncentrace vodní páry v reaktoru přidáním dusíku a kyslíku. Ověření vlivu růstových parametrů SiO2 vrstvy na výsledné optické a elektrické vlastnosti testovacích solárních článků. Ověření použití designu dvojvrstvé ARC pasivační vrstvy s tloušťkou 25 až 30 nm (ve spojení s další tenkou vrstvou na bázi Si3N4 s tloušťkou 40 až 50 nm) v procesu výroby solárních článků s vysokou účinností.
|
http://linked.open...iv/tvurceVysledku
| - Bařinka, Radim
- Bařinková, Pavlína
- Fiala, Martin
- Frantík, Ondřej
- Poruba, Aleš
- Wostrý, Petr
- Čech, Pavel
- Remeš, Zdeněk
- Holovský, Jakub
- Purkrt, Adam
- Konečný, Ladislav
- Mareš, Gustav
- Pitrun, Jiří
- Rek, Štěpán
- Štěpánek, Jaroslav
- Piják, Antonín
- Jakeš, Jakub
- Martínek, Pavel
|
http://linked.open...avai/riv/vlastnik
| |
http://linked.open...itiJinymSubjektem
| |