V práci jsou prezentovány výsledky elipsometrického výzkumu při vysokých teplotách tenkých vrstev (Zn0.5Li0.5)O připravovaných naprašováním pomocí nízkotlaké plazmové trysky (cs)
In this worh, we present ellipsometric investigazions of low-pressure plasma jet sputered (Zn0.5Li0.5)O thin films at high temperature
In this worh, we present ellipsometric investigazions of low-pressure plasma jet sputered (Zn0.5Li0.5)O thin films at high temperature (en)