Je prezentována nová metoda přesného měření oscilační části fázové změny při odrazu (interferometrická fáze) od tenké vrstvy. (cs)
A new method for a precise measurement of the oscillatory part of phase change on reflection (interferometric phase) from a thin-film structure is presented.
A new method for a precise measurement of the oscillatory part of phase change on reflection (interferometric phase) from a thin-film structure is presented. (en)