Description
| - High frequency (hf) plasma, which is now frequently used both in research and practical application, especially in plasmachemistry, has been generated in different gases almost at reduced pressure. Discharges burning in flowing gases at atmospheric pressure are less known and used. Recently, a completely new type of hf unipolar/bipolar discharge burning from a hollow electrode at atmospheric pressure in a working gas flowing through the electrode with input hf power up to 500 W and a plasmachemicaldevice for generation of such discharge, called plasma pencil, was developed at the Department (patent No. PV 1476-98 CZ). First results show that the discharge with similar properties can be generated at atmospheric pressure not only by hf generators byalso by means of dc, low frequency and microwave sources. Moreover, it was found that the plasma pencil can also work in liquid solution, which can be used for modification of surfaces (cleaning from corrosion, ablation, etching, deposition of thin films (en)
- Vf plazma hojně používané jak ve výzkumu, tak i v aplikacích technické praxe, zejména v plazmochemii, je generováno v různých atmosférách, častěji za sníženého tlaku. V proudících plynech za atmosférického tlaku je méně používané i známé. V poslední doběbyl vyvinut zcela nový typ vf výboje jednopólového, resp. dvoupólového charakteru, hořícího z duté elektrody za normálního tlaku v plynu proudícím skrze tuto elektrodu při vf výkonu do 500W, a současně plazmochemické zařízení generující tento výboj, tzv.plazmová tužka (plasma pencil) (PV 1476-98 CZ). Předběžný výzkum ukázal, že výboj podobných vlastností (výrazně neizotermické plazma) lze budit plazmovou tužkou za atmosférického tlaku nejen vf energií, ale také ss, nf a mikrovlnnými zdroji. Současně bylodkryta pro praxi velmi zajímavá skutečnost, že plazmovou tužku lze aplikovat jak v různých plynných médiích, tak i v kapalném prostředí zvláště na úpravy povrchů (čištění, ablace, leptání, depozice vrstev apod.). Aktuální fází výzkumu je nyní posouzení
|