Attributes | Values |
---|
rdf:type
| |
Description
| - This work describes the preparation of thin Titanium(IV) oxide semiconducting thin films modified by nitrogen doping. Layers were deposited by means of low pressure plasmatic system in the reactor with hollow cathodes. Prepared films were except detailed characterization (XRD, Raman spectroscopy, UV-Vis, XPS, AFM) tested then for their electrochemical properties. (en)
- Tato práce se zabývá přípravou tenkých vrstev oxidu titaničitého cíleně modifikovaných jejich dopací dusíkem. Vrstvy byly připravovány pomocí nízkotlakého plazmatického systému v reaktoru s dutými katodami. Připravené vrstvy byly kromě důkladné fyzikální charakterizace (XRD, Ramanova spektroskopie, UV-Vis, XPS, AFM) posuzovány na základě jejich fotoelektrochemických vlastností.
- Tato práce se zabývá přípravou tenkých vrstev oxidu titaničitého cíleně modifikovaných jejich dopací dusíkem. Vrstvy byly připravovány pomocí nízkotlakého plazmatického systému v reaktoru s dutými katodami. Připravené vrstvy byly kromě důkladné fyzikální charakterizace (XRD, Ramanova spektroskopie, UV-Vis, XPS, AFM) posuzovány na základě jejich fotoelektrochemických vlastností. (cs)
|
Title
| - DC pulzní plazmatický systém s dutými katodami pro depozici tenkých vrstev TiO2:N ? efekt velikosti proudu v pulzu na vlastnosti vrstev
- DC pulzní plazmatický systém s dutými katodami pro depozici tenkých vrstev TiO2:N ? efekt velikosti proudu v pulzu na vlastnosti vrstev (cs)
- DC pulse plasmatic system with hollow cathodes for TiO2:N layers deposition ? effect of current quantity in pulse on layer properties (en)
|
skos:prefLabel
| - DC pulzní plazmatický systém s dutými katodami pro depozici tenkých vrstev TiO2:N ? efekt velikosti proudu v pulzu na vlastnosti vrstev
- DC pulzní plazmatický systém s dutými katodami pro depozici tenkých vrstev TiO2:N ? efekt velikosti proudu v pulzu na vlastnosti vrstev (cs)
- DC pulse plasmatic system with hollow cathodes for TiO2:N layers deposition ? effect of current quantity in pulse on layer properties (en)
|
skos:notation
| - RIV/60461373:22310/09:00021534!RIV10-MSM-22310___
|
http://linked.open...avai/riv/aktivita
| |
http://linked.open...avai/riv/aktivity
| |
http://linked.open...vai/riv/dodaniDat
| |
http://linked.open...aciTvurceVysledku
| |
http://linked.open.../riv/druhVysledku
| |
http://linked.open...iv/duvernostUdaju
| |
http://linked.open...titaPredkladatele
| |
http://linked.open...dnocenehoVysledku
| |
http://linked.open...ai/riv/idVysledku
| - RIV/60461373:22310/09:00021534
|
http://linked.open...riv/jazykVysledku
| |
http://linked.open.../riv/klicovaSlova
| - TiO2 thin films; plasmatic; nitrogen doping (en)
|
http://linked.open.../riv/klicoveSlovo
| |
http://linked.open...ontrolniKodProRIV
| |
http://linked.open...v/mistoKonaniAkce
| |
http://linked.open...i/riv/mistoVydani
| |
http://linked.open...i/riv/nazevZdroje
| - Nanomateriály a fotokatalýza - Sborník příspěvků
|
http://linked.open...in/vavai/riv/obor
| |
http://linked.open...ichTvurcuVysledku
| |
http://linked.open...cetTvurcuVysledku
| |
http://linked.open...vavai/riv/projekt
| |
http://linked.open...UplatneniVysledku
| |
http://linked.open...iv/tvurceVysledku
| - Kment, Štěpán
- Krýsa, Josef
- Klusoň, Petr
- Hubička, Z.
|
http://linked.open...vavai/riv/typAkce
| |
http://linked.open.../riv/zahajeniAkce
| |
number of pages
| |
http://purl.org/ne...btex#hasPublisher
| - Vysoká škola chemicko-technologická v Praze
|
https://schema.org/isbn
| |
http://localhost/t...ganizacniJednotka
| |