Attributes | Values |
---|
rdf:type
| |
Description
| - Byla vyvinuta plazmová PECVD technologie pripravy tenkych vrstev ZnO dopovanych Al v mikrovlnnem vyboji s povrchovou vlnou a plazmovým proudícím kanálem. Pomocí tohoto technologickeho postupu lze kontrolou podmínek při procesu dosáhnout definované velikosti krystalického zrna, elektrické vodivosti vrstvy a její tloušťky.
- Byla vyvinuta plazmová PECVD technologie pripravy tenkych vrstev ZnO dopovanych Al v mikrovlnnem vyboji s povrchovou vlnou a plazmovým proudícím kanálem. Pomocí tohoto technologickeho postupu lze kontrolou podmínek při procesu dosáhnout definované velikosti krystalického zrna, elektrické vodivosti vrstvy a její tloušťky. (cs)
- The plasma PECVD technology was developed for the deposition of ZnO thin films doped by Al. Microwave plasma jet generated by a surface wave is employed for this purpose. If the deposition conditions are controlled, It is possible to achieve defined sizes of crystallites, defined electrical conductivity and film thickeness. (en)
|
Title
| - Technologický postup přípravy ZnO vrstev MW PECVD metodou s definovanou vodivosti a velikosti zrna
- Technologický postup přípravy ZnO vrstev MW PECVD metodou s definovanou vodivosti a velikosti zrna (cs)
- Technology of ZnO films preparation by MW PECVD with defined conductivity and grain size (en)
|
skos:prefLabel
| - Technologický postup přípravy ZnO vrstev MW PECVD metodou s definovanou vodivosti a velikosti zrna
- Technologický postup přípravy ZnO vrstev MW PECVD metodou s definovanou vodivosti a velikosti zrna (cs)
- Technology of ZnO films preparation by MW PECVD with defined conductivity and grain size (en)
|
skos:notation
| - A-MWZnO-2012-01
- RIV/27711170:_____/12:#0000019!RIV13-TA0-27711170
|
http://linked.open...avai/riv/aktivita
| |
http://linked.open...avai/riv/aktivity
| |
http://linked.open...certifikacniOrgan
| - SVCS Process Innovation s.r.o.
|
http://linked.open.../datumCertifikace
| |
http://linked.open...vai/riv/dodaniDat
| |
http://linked.open...aciTvurceVysledku
| |
http://linked.open.../riv/druhVysledku
| |
http://linked.open...iv/duvernostUdaju
| |
http://linked.open...onomickeParametry
| - Metodika bude sloužit jako podpůrný produkt prodeje MWPECVD zařízení. V rámci implementace certifikované metodiky do zmíněného MWPECVD zařízení očekáváme navýšení ceny tohoto zařízení cca o 4%.
|
http://linked.open...titaPredkladatele
| |
http://linked.open...dnocenehoVysledku
| |
http://linked.open...ai/riv/idVysledku
| - RIV/27711170:_____/12:#0000019
|
http://linked.open...terniIdentifikace
| |
http://linked.open...riv/jazykVysledku
| |
http://linked.open.../riv/klicovaSlova
| - deposition; plasma; MWPECVD technology; thin films (en)
|
http://linked.open.../riv/klicoveSlovo
| |
http://linked.open...ontrolniKodProRIV
| |
http://linked.open...in/vavai/riv/obor
| |
http://linked.open...ichTvurcuVysledku
| |
http://linked.open...cetTvurcuVysledku
| |
http://linked.open...vavai/riv/projekt
| |
http://linked.open...UplatneniVysledku
| |
http://linked.open...echnickeParametry
| - Byla vyvinuta plazmová PECVD technologie pripravy tenkych vrstev ZnO dopovanych Al v mikrovlnnem vyboji s povrchovou vlnou a plazmovým proudícím kanálem. Pomocí tohoto technologickeho postupu lze kontrolou podmínek při procesu dosáhnout definované velikosti krystalického zrna, elektrické vodivosti vrstvy a její tloušťky
|
http://linked.open...iv/tvurceVysledku
| - Kromka, Alexander
- Šmíd, Jiří
- Hubička, Zdeněk
- Čada, Martin
- Potocký, Štěpán
- Pitrun, Jiří
- Piják, Antonín
|