About: New low temperature plasmatic technologies of thin films deposition at atmospheric pressure     Goto   Sponge   Distinct   Permalink

An Entity of Type : http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/Projekt, within Data Space : linked.opendata.cz associated with source document(s)

AttributesValues
rdf:type
Description
  • Proposed project will be devoted to applied research and development of the new environmentally safe plasmatic technologies of thin films at the low temperatures of the substrate T< 80 deg C. New systems with plasma jets working at atmospheric pressures will be developed. Although research and development deals with these problems, this technology was not satisfactory mastered up to now. Main effort will be concentrated on the optically transparent thin oxide films deposited on plastic substrates. Particularly, it will be deposited doped ZnO, In2O3:Sn thin films and others similar which are suitable and required in industry applications. The next kind of deposited materials will be anti corrosive barrier coatings of aluminum alloys by Al2O3 and CeO2 films. 'In situ' measurement of plasma parameters and thin films properties will be correlated in order to optimize the deposition process. (en)
  • Navrhovaný projekt bude zaměřen na cílený výzkum a vývoj nových ekologických plazmatických technologií depozice tenkých vrstev při udržení nízkých teplot substrátu T < 80 st C. Vyvíjeny budou různé systémy s proudícími plazmovými kanály pracujících za atmosférického tlaku. Přestože výzkum a vývoj je v poslední době intenzivně zaměřen v tomto směru, problém těchto technologií nebyl dosud uspokojivě zvládnut. Pozornost bude zaměřena na tenké vrstvy opticky transparentních vodivých oxidů deponované na plastové substráty. Konkrétně půjde o dopované ZnO, In2O3:Sn vrstvy a podobně, které jsou vhodné a žádané pro aplikace v průmyslu. Další cílovým druhem deponovaných materiálů budou antikorozní bariérové povlaky hliníkových slitin vrstvami Al2O3 a CeO2. Měření vlastností plazmatu přímo při depozici a parametrů vrstev bude využito k optimalizaci depozičního procesu. (cs)
Title
  • New low temperature plasmatic technologies of thin films deposition at atmospheric pressure (en)
  • Nové nízkoteplotní plazmatické technologie depozice tenkých vrstev za atmosférického tlaku (cs)
http://linked.open...lsi-vedlejsi-obor
http://linked.open...avai/druh-souteze
http://linked.open...domain/vavai/faze
http://linked.open...vavai/hlavni-obor
http://linked.open...vai/vedlejsi-obor
http://linked.open...vavai/id-aktivity
http://linked.open.../vavai/id-souteze
http://linked.open...n/vavai/kategorie
http://linked.open...vai/klicova-slova
  • atmospheric plasma;thin films deposition;plasma jet;barrier coatings;ellipsometry;emission spectroscopy (en)
http://linked.open...nujicich-prijemcu
http://linked.open...avai/poskytovatel
http://linked.open...ai/statni-podpora
http://linked.open...vavai/typProjektu
http://linked.open...ai/uznane-naklady
http://linked.open...ai/pocet-prijemcu
http://linked.open...cet-spoluprijemcu
http://linked.open...ai/pocet-vysledku
http://linked.open...ku-zverejnovanych
is http://linked.open...ain/vavai/projekt of
Faceted Search & Find service v1.16.118 as of Jun 21 2024


Alternative Linked Data Documents: ODE     Content Formats:   [cxml] [csv]     RDF   [text] [turtle] [ld+json] [rdf+json] [rdf+xml]     ODATA   [atom+xml] [odata+json]     Microdata   [microdata+json] [html]    About   
This material is Open Knowledge   W3C Semantic Web Technology [RDF Data] Valid XHTML + RDFa
OpenLink Virtuoso version 07.20.3240 as of Jun 21 2024, on Linux (x86_64-pc-linux-gnu), Single-Server Edition (126 GB total memory, 89 GB memory in use)
Data on this page belongs to its respective rights holders.
Virtuoso Faceted Browser Copyright © 2009-2024 OpenLink Software