| Attributes | Values |
|---|
| rdf:type
| |
| rdfs:seeAlso
| |
| Description
| - We propose in the project to perform investigation of plasma sources operating in pulse regime (cylindrical and planar magnetron, hollow cathode and surfatron-generated plasma jet), to characterize plasma sources with respect to deposition of thin films and together with computer simulation to clarify physical processes during growth and formation of films. The plasma sources will be investigated by appropriate diagnostics methods and obtained results will be used as input parameters into the computer simulations. The main objectives are:- To optimize plasma sources in pulse regime for efficient thin oxide film deposition: low-pressure dc magnetron, hollow cathode and microwave plasma jet.- To implement in these plasma sources the best suitable forms of the time-resolved diagnostic techniques: electrostatic probe, optical emission and laser absorption spectroscopy, mass spectrometry and ion flux diagnostics.- To obtain experimental data on the complex plasma processes occurring within these sources and to understand their significance with respect to the deposited nanocrystalline material properties including diagnostics of crystallographic structure.- Acquired plasma parameters and measured thin film properties will be used for development of computer simulation of thin film growth and enable us to describe basic physical principles responsible for thin film formation. (en)
- V projektu předpokládáme provést výzkum pulsně modulovaných zdrojů plazmatu (válcový a planární magnetron, plazmová tryska, mikrovlnný surfatronový výboj), jejich charakterizaci pro nanášení tenkých (především oxidových) vrstev a spolu s počítačovými simulacemi objasnit fyzikální procesy při růstu a formování tenkých vrstev. Plazma bude v těchto systémech studováno pomocí vhodných diagnostických metod a získané výsledky budou sloužit jako vstupní parametry do modelu počítačových simulací. Hlavní cíle projektu jsou následující: Optimalizovat pulzní zdroje plazmatu pro efektivní nanášení tenkých oxidových vrstev: planární magnetron, plazmovou trysku s dutou katodou pracujícícmi za nízkého tlaku a surfatronem buzený mikrovlnný tryskový výboj pracující za vyšších tlaků. Implementovat do těchto zdrojů plazmatu následující zdokonalené diagnostické metody měřící s časovým rozlišením: elektrostatickou sondu, emisní a laserovou absorpční spektroskopii, hmotovou spektrometrii a měření energetického rozdělení iontů. Experimentálně charakterizovat plazmatické procesy probíhající v těchto zdrojích plazmatu a porozumět jejich vlivu na vlastnosti nanášených nanokrystalických tenkých vrstev včetně diagnostiky jejich krystalografické struktury a s ní spjatých vlastností. Na základě výsledků diagnostiky plazmatu a vlastností nanesených vrstev vytvořit počítačové simulace růstu vrstev a vysvětlit základní fyzikální principy zodpovědné za formování vrstev.
|
| Title
| - Advanced experimental research of discharge plasma sources applied for deposition of nanostructured thin films (en)
- Pokročilý experimentální výzkum výbojových zdrojů plazmatu použitých pro přípravu nanostrukturovaných tenkých vrstev
|
| skos:notation
| |
| http://linked.open...avai/cep/aktivita
| |
| http://linked.open...kovaStatniPodpora
| |
| http://linked.open...ep/celkoveNaklady
| |
| http://linked.open...datumDodatniDoRIV
| |
| http://linked.open...i/cep/druhSouteze
| |
| http://linked.open...ep/duvernostUdaju
| |
| http://linked.open.../cep/fazeProjektu
| |
| http://linked.open...ai/cep/hlavniObor
| |
| http://linked.open...hodnoceniProjektu
| |
| http://linked.open...vai/cep/kategorie
| |
| http://linked.open.../cep/klicovaSlova
| - discharge plasma jet magnetron TiO2 (en)
|
| http://linked.open...ep/partnetrHlavni
| |
| http://linked.open...inujicichPrijemcu
| |
| http://linked.open...cep/pocetPrijemcu
| |
| http://linked.open...ocetSpoluPrijemcu
| |
| http://linked.open.../pocetVysledkuRIV
| |
| http://linked.open...enychVysledkuVRIV
| |
| http://linked.open...lneniVMinulemRoce
| |
| http://linked.open.../prideleniPodpory
| |
| http://linked.open...iciPoslednihoRoku
| |
| http://linked.open...atUdajeProjZameru
| |
| http://linked.open.../vavai/cep/soutez
| |
| http://linked.open...usZobrazovaneFaze
| |
| http://linked.open...ai/cep/typPojektu
| |
| http://linked.open...ep/ukonceniReseni
| |
| http://linked.open...ep/zahajeniReseni
| |
| http://linked.open...jektu+dodavatelem
| - Přínos projektu spočívá v rozvoji sondových diagnostik (modifikovaná Katsumata sonda) umožňujících mapování iontových toků na substrát v hybrid- ních HiPIMS systémech, v oblasti depozice tenkých vrstev (kompozitní gradientní Ti-Cu vrstvy, řízení krystalo-grafické struktury TiO2 vrstev p-d parametrem) a v oblasti simulací růstu vrstev. Výsledky jsou ve 13 impaktovaných publikacích. (cs)
- Main outcome of the project consist in the development of probe diagnostics (modified Katsumata probe) enabling mapping of ion flux onto substrate in hybrid MF-HiPIMS systems, in the deposition of thin films (Ti-Cu composite layer with a gradient structure, control of the crystallographic structure of the TiO2 films by p-d parameter) and in simulations of thin film growth (13 published papers). (en)
|
| http://linked.open...tniCyklusProjektu
| |
| is http://linked.open...vavai/cep/projekt
of | |
![[RDF Data]](/fct/images/sw-rdf-blue.png)
![[cxml]](/fct/images/cxml_doc.png)
![[csv]](/fct/images/csv_doc.png)
![[text]](/fct/images/ntriples_doc.png)
![[turtle]](/fct/images/n3turtle_doc.png)
![[ld+json]](/fct/images/jsonld_doc.png)
![[rdf+json]](/fct/images/json_doc.png)
![[rdf+xml]](/fct/images/xml_doc.png)
![[atom+xml]](/fct/images/atom_doc.png)
![[html]](/fct/images/html_doc.png)